詳細(xì)摘要： URE-2000S/35L（A）型紫外雙面光刻機(jī)，曝光面積：6 英寸，正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 CCD+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)...

詳細(xì)摘要： URE-2000S/35L（B）型雙面光刻機(jī), 曝光面積：4 英寸, 正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 CCD+顯示器對準(zhǔn)，光學(xué)...

詳細(xì)摘要： URE-2000S/25S 型雙面光刻機(jī)，曝光面積：4 英寸（或 6 英寸），正面對準(zhǔn)采用雙目雙視場對準(zhǔn)顯微鏡：既可通過目鏡目視對準(zhǔn)，也可通過 CCD+顯示器對...

詳細(xì)摘要： OAI Model 212型桌面掩模對準(zhǔn)系統(tǒng), 輸出光譜范圍:Hg: G(436nm),H(405nm),I(365nm)和310nm,Hg-Xe: 260 n...

詳細(xì)摘要： OAI Model 800E 型掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)，各種光譜范圍選項:Hg燈:G(436nm),H(405nm)， I(365nm)和310nm線，Hg-Xe燈:26...

詳細(xì)摘要： OAI 掩膜光刻機(jī) Model 6000型，高吞吐量180 wph，靈活處理基板從2平方到12平方

詳細(xì)摘要： OAI的面板級掩模光刻機(jī) Model 6020S, 用于FOPLP型號6020S -半自動化或自動化,實(shí)現(xiàn)500mm x 500mm晶圓尺寸的FO-PLP加工.

詳細(xì)摘要： MLA桌面無掩模光刻機(jī)

詳細(xì)摘要： 日本Elionix 微細(xì)加式電子束曝光電子束直寫機(jī)ELS-F125，是Elionix推出的世界上*加速電壓達(dá)125KV的電子束曝光系統(tǒng)，其可加工線寬下限為5nm...

詳細(xì)摘要： 日本Elionix 超高精密電子束光刻系統(tǒng) ELS-F150, 是一個150千伏電子束光刻系統(tǒng)。支持單位納米級用于高級研究的設(shè)備制造。

詳細(xì)摘要： ELS-BODEN新型電子束光刻系統(tǒng),高速掃描400MHz頻率生產(chǎn)

詳細(xì)摘要： DWL 66+激光光刻系統(tǒng)是具經(jīng)濟(jì)效益的高分辨率圖像產(chǎn)生器, 具有多種直寫模塊，實(shí)現(xiàn)不同精度直寫需求, 能于結(jié)構(gòu)上進(jìn)行灰度曝光

詳細(xì)摘要： 德國海德堡 Heidelberg 激光直寫光刻機(jī) MLA150,德國高精密激光直寫繪圖機(jī),非接觸式曝光,可支持高效數(shù)位光刻與灰度光刻.

詳細(xì)摘要： URE-2000/30Z 型光刻機(jī),樣片尺寸：3, 4,6,自動對準(zhǔn)精度：0.7mm

詳細(xì)摘要： URE-2000S 系列雙面光刻機(jī)，對準(zhǔn)精度：2 mm（雙面,片厚 0.8mm），0.8mm（單面）

詳細(xì)摘要： URE-2000 系列紫外單面光刻機(jī)，此系列包含六種型號：URE-2000A,URE-2000B,URE-2000/35,URE-2000/35A,URE-20...

詳細(xì)摘要： AFMinSEM 德國 Nano analytik（ParcanNano)針尖電子束光刻與掃描電子顯微鏡組合系統(tǒng),既可以在大氣環(huán)境下實(shí)現(xiàn)樣品快速表征，也可以集成...

詳細(xì)摘要： SPL德國Nano analytik(ParcanNano)針尖電子束光刻機(jī)，基于掃描針尖低能電子場發(fā)射的原理、采用壓阻式微納米針尖和多維納米定位與測量技術(shù)、在...

詳細(xì)摘要： SII 德國 Nano analytik（ParcanNano ）納米級精準(zhǔn)定位的單離子注入機(jī),基于新型掃描針尖精準(zhǔn)定位的離子注入系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)有效控制注入半導(dǎo)體器...

詳細(xì)摘要： AFM 德國 Nano analytik（ParcanNano）高速原子力顯微鏡，它使用主動式智能針尖，集傳感器、驅(qū)動器和可功能化的針尖于一身，實(shí)現(xiàn)自激發(fā)和自傳...