TESCAN超高分辨場發(fā)射掃描電鏡
主要特點:
TriglavTM——新開發(fā)的超高分辨電子光學鏡筒并配備TriLensTM物鏡及*的探測系統(tǒng)
超高分辨率物鏡(60度浸沒式物鏡),全新的用于高分辨率分析工作的無漏磁分析物鏡,重新設計用于超大視場觀察的中間鏡。
*的電子束無交叉模式與超高分辨率物鏡相結合,獲得了的成像性能
傳統(tǒng)的TESCAN大視野光路設計提供各種工作和顯示模式
全新的EquiPower™技術進一步提高電子束的穩(wěn)定性
新的肖特基場發(fā)射電子槍能使電子束流高達400nA并能實現(xiàn)電子束能量的快速改變
通過擴展樣品室和支架能達到12”晶圓的SEM觀察
TriBETM技術具有三個BSE探測器,可以選擇不同角度的信號進行采集。位于鏡筒內部的Mid-Ange BSE和In-Beam LE-BSE探測器,用于檢測中等角度及軸向的高角背散射電子,而樣品室的BSE探測器用于探測大角度范圍的背散射電子。并且這三個探測器能探測到低于200eV的低能背散射信號,綜合在一起,他們可以提供各種不同襯度的圖像
TriSETM技術具有三個SE探測器,對所有工作模式下采集二次電子信號都進行了優(yōu)化。位于鏡筒內部的In-Beam SE探測器能在短工作距離下采集二次電子。用于電子束減速模式下的SE(BDM)探測器用于超高分辨成像。In-Chamber SE探測器能提供形貌襯度
電子束減速技術(BDT)能在低至50eV的低電壓下,也仍具有出色的分辨率(選配)
TESCAN超高分辨場發(fā)射掃描電鏡電子束實時追蹤技術可對電子束實現(xiàn)實時優(yōu)化
擴展的低真空模式樣品室氣壓能達到500Pa,可用于不導電樣品的成像
超高分辨率 0.7@15keV,1.0nm@1keV
浸沒式物鏡系統(tǒng)和無交叉電子束模式結合在一起,可在低能量下實現(xiàn)超高分辨成像。浸沒式物鏡能在樣品周圍產生強磁場,顯著降低了像差。而無交叉電子束模式則降低了Boersch效應,對電子束進行進一步的優(yōu)化,終達到1.0nm @1keV的超高分辨率。