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詳細介紹
等離子體增強化學氣相沉積設備（PECVD）
產(chǎn)品介紹
◆用工控機對工藝時間，溫度，氣體流量，閥門動作，反應室壓力實現(xiàn)全自動化控制。
◆采用進口壓力控制系統(tǒng)，閉環(huán)系統(tǒng)，穩(wěn)定性高。
◆采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。
◆具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。
◆具有超高溫報警及欠溫報警，MFC報警，反應室壓力報警，RF報警，壓縮空氣壓力低報警， N2壓力低報警，冷卻水流量低報警。
◆現(xiàn)有的PECVD改造升級后具有生長SiO2薄膜的功能，解決了電池組件PID問題。
同時可生長SiNxOy薄膜（背面鈍化工藝），可極大地提高電池的轉(zhuǎn)換效率。
類型Type
◆裝片數(shù)量：384片/舟（125*125） 336片/舟（156*156）
◆凈化臺潔凈度：100級（10000級廠房）
◆自動化程度：自動控制溫度及工藝過程。
◆送取片方式：軟著陸式，其特點平穩(wěn)可靠、無爬行、定位準確、承重量大，使用壽命長。
主要技術(shù)指標
產(chǎn)品介紹
◆用工控機對工藝時間，溫度，氣體流量，閥門動作，反應室壓力實現(xiàn)全自動化控制。
◆采用進口壓力控制系統(tǒng)，閉環(huán)系統(tǒng)，穩(wěn)定性高。
◆采用進口耐腐蝕不銹鋼管件、閥門，確保氣路氣密性。
◆具有完善的報警功能及安全互鎖裝置。
◆具有超高溫報警及欠溫報警，MFC報警，反應室壓力報警，RF報警，壓縮空氣壓力低報警， N2壓力低報警，冷卻水流量低報警。
◆現(xiàn)有的PECVD改造升級后具有生長SiO2薄膜的功能，解決了電池組件PID問題。
同時可生長SiNxOy薄膜（背面鈍化工藝），可極大地提高電池的轉(zhuǎn)換效率。
類型Type
◆裝片數(shù)量：384片/舟（125*125） 336片/舟（156*156）
◆凈化臺潔凈度：100級（10000級廠房）
◆自動化程度：自動控制溫度及工藝過程。
◆送取片方式：軟著陸式，其特點平穩(wěn)可靠、無爬行、定位準確、承重量大，使用壽命長。
主要技術(shù)指標
| 每管裝片量 | 384片/舟（125*125） 336片/舟（156*156） |
| 工藝指標 | 片內(nèi)±3%，片間±3%，批間±3% |
| 工作溫度 | 200~500℃ |
| 溫區(qū)精度及長度（靜態(tài)閉管測試） | 1200mm±1℃ |
| 氣體流量精度 | ±1%FS |
| 氣路系統(tǒng)氣密性 | 1×10-7Pa.m³/S |
| 控制 | 全進口自動壓力閉環(huán)調(diào)節(jié)系統(tǒng)，精準控制反應真空；40KHz 高頻電源；工藝舟軟著陸；全數(shù)字式控制，完善安全的過程控制保護。 |
| 1管、2管、3管、4管分別可選；自動裝載機械手可選，設備性能、工藝性能可與進口設備媲美。 | |
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