詳細(xì)介紹
石墨烯、碳納米管材料CVD設(shè)備
石墨烯、碳納米管材料納米材料CVD設(shè)備 Graphene 、Nano-materials CVD
產(chǎn)品介紹
該設(shè)備主要用于石墨烯、納米材料工藝涂層、多晶硅、碳化硅、擴(kuò)散、氧化、退火等工藝。
主要技術(shù)指標(biāo)
石墨烯、碳納米管材料納米材料CVD設(shè)備 Graphene 、Nano-materials CVD
產(chǎn)品介紹
該設(shè)備主要用于石墨烯、納米材料工藝涂層、多晶硅、碳化硅、擴(kuò)散、氧化、退火等工藝。
主要技術(shù)指標(biāo)
結(jié)構(gòu)型式 | 臥式,單管或多管系統(tǒng)自動(dòng)控制 |
適應(yīng)晶片尺寸 | 2-8″ |
送取片方式 | 自動(dòng)懸臂石英推拉舟,配合手動(dòng)取、放片方式。 |
溫度 | 1050℃ |
工作溫度 | 400℃~850℃連續(xù)可調(diào) |
單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性 | 400℃~850℃≤±0.5℃/24h |
系統(tǒng)極限真空度 | 優(yōu)于1Pa |
抽速 | 抽限真空時(shí)間<15Min |
工作壓力范圍 | 5Pa到1×105Pa連續(xù)可調(diào) |
供電電源 | 三相五線380V±10%,50Hz |
冷卻水 | 2~4Kgf/cm²,8L/min; |