2021-07-14 08:31:17237
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在線詢價圖片描述：
德ZeissSigmaSEM電子束直寫儀，利用曝光抗蝕劑，采用電子束直接曝光，可在各種襯底材料表面直寫各種圖形，圖形結構（最小線寬為10nm），是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應用于納米器件，光子晶體，低維半導體等前沿領域。
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