德Zeiss Sigma SEM 電子束直寫(xiě)儀
型號(hào):Zeiss Sigma SEM
主要功能:
·利用曝光抗蝕劑,采用電子束直接曝光,可在各種襯底材料表面直寫(xiě)各種圖形,圖形結(jié)構(gòu)(最小線寬為10nm),是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要工具。廣泛應(yīng)用于納米器件,光子晶體,低維半導(dǎo)體等前沿領(lǐng)域。
技術(shù)指標(biāo):
·肖特基熱場(chǎng)發(fā)射電子源
·加速電壓:100V~30kV
·放大倍率:12X~1000,000X
·SEM分辨率:1nm@30kV,1.5nm (15kV),2.8nm(1kV)
·電子束曝光:10nm(20kV)
·場(chǎng)拼接精度:<100nm
·掃描頻率:6MHz
·圖形格式:GDSII