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小型真空等離子清洗機TS-PL30MA

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號TS-PL30MA
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/3/4 12:43:09
  • 訪問次數(shù)430
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深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機構(gòu),投入相當大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、東南大學(xué)光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
半導(dǎo)體超聲波清洗機
產(chǎn)品介紹小型等離子清洗機TS-PL30MA產(chǎn)品參數(shù):名稱 小型真空等離子清洗機TS-PL30MA設(shè)備外形尺寸W650×D750×H1500(mm)腔體尺寸W300xD350xH300(mm)腔體容量30升電極板數(shù)量3層電極固定方式插拔可拆卸等離子電源13
小型真空等離子清洗機TS-PL30MA 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

小型等離子清洗機TS-PL30MA產(chǎn)品參數(shù):

名稱 小型真空等離子清洗機TS-PL30MA
設(shè)備外形尺寸 W650×D750×H1500(mm)
腔體尺寸 W300xD350xH300(mm)
腔體容量 30升
電極板數(shù)量 3層
電極固定方式 插拔可拆卸
等離子電源 13.56MHz/300W
工作真空度 30Pa以內(nèi)
腔體溫度 常溫
反應(yīng)氣體 2路,(氧氣、氬氣、氮氣等非腐蝕性氣體)

等離子清洗機的基本構(gòu)造:

根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過選用不同種類的氣體,調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實現(xiàn)化。 但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的, 一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電 極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等 部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。

等離子清洗機工作原理:

等離子清洗是依靠特定物質(zhì)等離子體中的高 能粒子流沖擊需要清潔的物體表面,產(chǎn)生物理沖擊(如氬等離子體)或化學(xué)反應(yīng)(氧等離子體)來實 現(xiàn)去除物體表面污漬的功能。目前,大多數(shù)等離子 清洗系統(tǒng)通過降低反應(yīng)倉的壓力到 100 Pa 以下, 然后以一定的速度通入合適的氣體并啟動電源來獲得等離子體。

等離子清洗的技術(shù)特點是,它不分 處理對象,可處理不同的基材。無論是金屬、半 導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯 乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚脂、環(huán)氧樹 脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理。因此, 特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可 以有選擇地對材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進行部 分清洗。 在完成清洗去污的同時,還能改變材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能,改善 膜的附著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

關(guān)鍵詞:清洗機 真空泵
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