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小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA-S

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號TS-PL10MA-S
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2023/3/4 12:39:50
  • 訪問次數(shù)327
產(chǎn)品標簽:

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深圳市東信高科自動化設(shè)備有限公司始創(chuàng)于1998年,是中國早期一批專業(yè)從事真空及大氣低溫等離孑體(電漿)技術(shù)、射頻及微波等離子體技術(shù)研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的國家髙新技術(shù)企業(yè),隸屬于東信髙科等離子科技(香港)控股有限公司,總部設(shè)于香港。目前公司設(shè)立有等離子事業(yè)部,超聲清洗事業(yè)部,自動化設(shè)備事業(yè)部,塑膠焊接事業(yè)部。產(chǎn)品涉及等離子體表面處理設(shè)眢,超聲波淸洗設(shè)備、電鍍、制冷等環(huán)保自動化設(shè)備等。公司現(xiàn)有廠房面積7000余平方米,員工150人以上,其中博士生5人,高級研發(fā)工程師近40余人,售后服務(wù)25余人。 為適應(yīng)國內(nèi)外市場對等離子體表面處理工藝的需求,東信高科等離子事業(yè)部聯(lián)合德國等離孑體硏究所,中囯等離子硏究所,囯內(nèi)外科硏機構(gòu),投入相當大的硏發(fā)成本,先后硏發(fā)岀了等離子清洗機、等離子刻蝕機、等離子去膠機、等離子表面處理設(shè)備、電漿清洗機及常壓等離子打磨、拋光系統(tǒng)等。目前產(chǎn)品廣泛服努于包裝、塑料制品、通訊、汽車、家電、光電、紡織、半導(dǎo)體及精密制造行業(yè)在表面涂裝、表面粘接、表面清潔方面尤為突岀。通過多年的市場實踐及等離子新技術(shù)研究和應(yīng)用,成功的推動了我國低溫等離子技術(shù)在等離子體塵埃、晶體、材料合成、微米納米技術(shù)、化工、環(huán)保、表面聚合、表面接枝、表面刻蝕、表面催化、金屬滲氮、化學(xué)合成和和氣、液、固態(tài)物質(zhì)的處理方面的發(fā)展。 憑借公司的強大研發(fā)實力,東信高科已成功申請多項技術(shù)。目前經(jīng)過近二十年的發(fā)展,公司產(chǎn)品先后經(jīng)過了四次升級換代,公司先后與富士康公司、美國AAC集團、愛普生電子、中國兵器集團、、東南大學(xué)光電實驗室、藍思科技、長方照明、歐菲光科技、伯恩光學(xué)、信利光電、德昌電機、深圳比亞迪股份、大疆創(chuàng)新、國顯科技、吉利汽車等世界企業(yè)和硏究單位達成戰(zhàn)略合作協(xié)議,成為上述企業(yè)和單位的設(shè)備供應(yīng)商。公司秉承誠信、拼搏、創(chuàng)新的精神理念,以人為本、高效服務(wù)的經(jīng)營理念,立足中國,面向,打的等離子表面處理設(shè)備供應(yīng)商和服務(wù)商!
半導(dǎo)體超聲波清洗機
產(chǎn)品介紹小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA產(chǎn)品參數(shù):名稱小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA-S控制方式PLC+觸摸屏供電電源AC220V(±10V)50/60Hz整機功率1.5KW(含真空泵)等離子源功率300W(0-300連續(xù)可調(diào))等離子源頻率13.56MHz
小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA-S 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品介紹

小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA產(chǎn)品參數(shù):

名稱 小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA-S
控制方式 PLC+觸摸屏
供電電源 AC220V(±10V)50/60Hz
整機功率 1.5KW(含真空泵)
等離子源功率 300W(0-300連續(xù)可調(diào))
等離子源頻率 13.56MHz,自動阻抗匹配
清洗時間 1-9999s 可調(diào)
真空度 <80Pa
工藝氣體 二路工藝氣體
外形尺寸(mm) 500mm ×550mm ×750mm(長×寬×高)

小型射頻等離子清洗機TS-PL10MA產(chǎn)品特點:

的密封性腔體:采用進口316不銹鋼腔體,級的高真空度真空腔體設(shè)計及制造工藝。

高密度等離子電源技術(shù):采用進口等離子電源電路技術(shù),確保出眾的清洗效果。

放電技術(shù):特殊處理的放電裝置,確保形成穩(wěn)定均勻的等離子體。

高精度氣體流量監(jiān)測系統(tǒng):兩種工藝氣體配置(氬氣、氧氣等非腐蝕性氣體),雙路氣流控制,比例可調(diào),采用MFC質(zhì)量流量計、氣體管路及閥件。

優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品部件:產(chǎn)品部件采用國內(nèi)外優(yōu)質(zhì)品牌,確保設(shè)備性能*。

數(shù)字計時單元:1-9999s選擇范圍時間顯示,處理過程結(jié)束后自動終止。

適用形狀復(fù)雜樣品:清洗各種復(fù)雜形狀的產(chǎn)品,包括內(nèi)孔內(nèi)壁,均勻清洗。

處理全程無污染 :等離子清洗機本身是很環(huán)保的設(shè)備,無產(chǎn)生任何污染,處理過程也無產(chǎn)生任何污染。

等離子體清洗設(shè)備的基本構(gòu)造:

根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過選用不同種類的氣體,調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實現(xiàn)化。 但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的, 一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電 極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56 MHz的無線電波。設(shè)備的運行過程如下:

(1 )被清洗的工件送入真空室并加以固定, 啟動運行裝置,開始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達到10 Pa 左右的標準真空度。一般排氣時間大約需要 2 min。

(2 )向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100Pa。 根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分別選用氧氣、氫 氣、氬氣或氮氣等氣體。

(3 )在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加 高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過輝光放電而發(fā) 生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體籠罩住被處理工件,開始清洗作業(yè)。一 般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

(4 )清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及氣化的污垢排出,同時向真空室內(nèi)鼓入空氣,并使氣壓升至一個大氣壓。

關(guān)鍵詞:清洗機 真空泵
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