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桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍...

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱鄭州成越科學(xué)儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)CY-MSP190S-1T-A
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/2/16 9:29:24
  • 訪問次數(shù)278
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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鄭州成越科學(xué)儀器有限公司位于鄭州*開發(fā)區(qū)863軟件園內(nèi),是一家專業(yè)從事材料制備設(shè)備和材料制備原料代理的高科技公司。重點(diǎn)專注于CVD石墨烯制備設(shè)備、熒光粉燒結(jié)設(shè)備、氧化鋯生物陶瓷燒結(jié)、納米材料制備、電池材料制備、陶瓷材料的微波燒結(jié)、稀有金屬的區(qū)域提純等研究發(fā)展方向,立志做材料制備技術(shù)及設(shè)備和原料的提供商。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司的“研發(fā)團(tuán)隊(duì)”憑借自身在熱處理技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí)和豐富的實(shí)踐經(jīng)驗(yàn),先后研發(fā)出了多款材料制備設(shè)備。主要產(chǎn)品有:微波燒結(jié)爐、真空管式爐、箱式電阻爐、高頻感應(yīng)爐、氧化鋯燒結(jié)爐、熒光粉燒結(jié)爐、晶體退火爐、電池材料燒結(jié)爐、旋轉(zhuǎn)管式爐、立式管式爐、CVD管式爐等;其他的產(chǎn)品還有:等離子清洗機(jī)、真空手套箱、真空干燥箱、環(huán)境模擬測(cè)試柜、行星球磨機(jī)、高純石英管、99剛玉管、真空法蘭等。 鄭州成越科學(xué)儀器有限公司 近年來,在社會(huì)各界的關(guān)心支持下,公司不斷發(fā)展壯大,與國內(nèi)外多所高校和科研單位建立起了合作關(guān)系;公司還聘請(qǐng)了多位國內(nèi)外重點(diǎn)高校的教授,博導(dǎo)為公司常年的技術(shù)顧問,他們時(shí)刻與國內(nèi)外學(xué)術(shù)界保持交流,出國訪問,并親臨一線指導(dǎo)產(chǎn)品的生產(chǎn)和研發(fā),使我公司的產(chǎn)品不斷完善,并緊跟世界研究熱點(diǎn),推出相關(guān)的新產(chǎn)品。產(chǎn)品遠(yuǎn)銷歐美、日韓等國家,并在國內(nèi)外市場(chǎng)獲得業(yè)界*。 如果您正在被國貨的產(chǎn)品質(zhì)量所困擾,選擇我們將改變您對(duì)國貨的某些觀念;如果您正在為自己的實(shí)驗(yàn)方案的實(shí)施而茫然,選擇我們將有專業(yè)的技術(shù)團(tuán)隊(duì)為您量身定做!如果您正在為故障設(shè)備的售后無人理會(huì)而發(fā)愁,選擇我們一切的問題將由我們負(fù)責(zé)到底。
壓片機(jī)
簡單介紹: 本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備
桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍... 產(chǎn)品信息
詳情介紹:

本設(shè)備為桌面型不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀,可用于金屬薄膜的制備,在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用,也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備。

本套配置采用高真空不銹鋼腔體,腔體設(shè)置帶擋板的石英觀察窗,便于實(shí)驗(yàn)的觀察記錄;腔體設(shè)計(jì)真空性能優(yōu)良,造型小巧,十分適合實(shí)驗(yàn)室使用。同時(shí)設(shè)備配有旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái),可以有效提高薄膜的均勻性和成膜的質(zhì)量。整機(jī)采用模塊化設(shè)計(jì),操作邏輯簡單,操作界面直觀,利于上手。

單靶磁控鍍膜儀

不銹鋼腔體單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù):


產(chǎn)品名稱

桌面型不銹鋼腔體單靶磁控濺射鍍膜儀

產(chǎn)品型號(hào)

CY-MSP190S-1T-A

安裝條件

1、使用環(huán)境溫度 25℃±15℃,濕度 55%Rh±10%Rh;

2、設(shè)備供電:AC220V,50Hz,必須有良好接地;

3、額定功率:1000w;

4、設(shè)備用氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣清洗,需客戶自備氬氣,純度 ≥99.99%;

5、擺放工作臺(tái)尺寸要求 600mm×600mm×700mm,承重 50kg 以上;

6、擺放位置要求通風(fēng)散熱良好。

技術(shù)參數(shù)

1、 濺射電源:直流電源300W;*大輸出電壓600V,極限輸出電流500mA

2、 磁控靶:2英寸平衡靶,配磁耦合擋板;

3、 磁控靶適用靶材: φ50mm x 3mm厚

4、 腔體尺寸:外徑φ194mm ,內(nèi)徑186mm x 高230mm;

5、 腔體材質(zhì): 304不銹鋼

6、 旋轉(zhuǎn)加熱樣品臺(tái):轉(zhuǎn)速1~20rpm  連續(xù)可調(diào);加熱溫度*高500℃,升溫速度推薦10/min,*高20/min。

7、 冷卻方式:磁控靶及分子泵需要循環(huán)水冷機(jī);

8、 水冷機(jī):水箱容積9L,流速10L/min

9、 供氣系統(tǒng):質(zhì)量流量計(jì), 氣體類型Ar氣,流量1~30sccm(可定制);

10、 流量計(jì)精度:±1.5%量程

11、 真空腔體抽氣接口為 KF40;

12、 進(jìn)氣接口為 1/4 英寸雙卡套接頭;

13、 顯示屏為7英寸彩色觸摸屏;

14、 可調(diào)節(jié)濺射電流,可設(shè)置濺射安全電流值、安全真空值;

15、 安全保護(hù):過流、真空過低自動(dòng)切斷濺射電流;

16、 極限真空:5E-4Pa(搭配分子泵);

17、 真空測(cè)量為電阻規(guī)真空計(jì),其量程為:1~105Pa

注意事項(xiàng)

1、磁控濺射工作真空較高,一般在2Pa之內(nèi),需要配分子泵使用。

2、為了達(dá)到較高的無氧環(huán)境,至少要用高純惰性氣體對(duì)真空腔體清洗 3 次。

3、磁控濺射對(duì)進(jìn)氣量比較敏感,需要使用質(zhì)量流量計(jì)控制進(jìn)氣量

可選配件

膜厚監(jiān)測(cè)儀

1、膜厚分辨率:0.0136?(鋁)

2、膜厚準(zhǔn)確度:±0.5%,取決于過程條件,特別是傳感器的位置, 材料應(yīng)力,溫度和密度

3、測(cè)量速度:100ms-1s/次,可設(shè)置測(cè)量范圍:500000?(鋁)

4、標(biāo)準(zhǔn)傳感器晶體:6MHz

5、適用晶片頻率:6MHz 適用晶片尺寸:Φ14mm 安裝法蘭:CF35

其他配件

1、CY-CZK103系列高性能分子泵組(含復(fù)合真空計(jì),測(cè)量范圍10-5Pa~105Pa);

CY-GZK60系列小型分子泵組(含復(fù)合真空計(jì),測(cè)量范圍10-5Pa~102Pa

VRD-4雙極旋片真空泵;

2、KF40真空波紋管;長度可選0.5m、1m、1.5m;KF40卡箍支架

3、膜厚儀晶振片;


關(guān)鍵詞:傳感器 真空泵
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