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化學(xué)氣相沉積爐(CVD系統(tǒng)) 詳細(xì)摘要: 簡要描述:這款CVD系統(tǒng)集真空管式爐,多通道氣路系統(tǒng)和真空系統(tǒng)組成,可根據(jù)用戶需要設(shè)計(jì)生產(chǎn)(有雙溫區(qū)、三溫區(qū)、多溫區(qū)),可預(yù)抽真空(有高真空、低真空),通多種氣...
產(chǎn)品型號: 所在地:上海市 更新時(shí)間:2024-03-11 參考價(jià): 面議 在線留言 -
等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積爐(PECVD系統(tǒng)) 詳細(xì)摘要: 簡要描述:PECVD工藝中由于等離子體中高速運(yùn)行的電子撞擊到中性的反應(yīng)氣體分子,就會使中性反應(yīng)氣體分子變成碎片或處于激活的狀態(tài)容易發(fā)生反應(yīng);借助射頻等使含有薄膜...
產(chǎn)品型號: 所在地:上海市 更新時(shí)間:2024-03-11 參考價(jià): 面議 在線留言