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簡單介紹:R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD設(shè)備由旋轉(zhuǎn)及傾斜機(jī)構(gòu)、單溫區(qū)管式爐、等離子發(fā)生機(jī)構(gòu)、質(zhì)量流量計供氣系統(tǒng)、高真空分子泵組部分構(gòu)成。R-PECVD真空旋轉(zhuǎn)等離子增強(qiáng)CVD設(shè)備利用旋轉(zhuǎn)和傾斜機(jī)構(gòu)實現(xiàn)連續(xù)生產(chǎn),并且可以使顆粒型樣品表面均勻生長產(chǎn)物。
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