圖片描述:
簡(jiǎn)單介紹:磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性?xún)r(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。磁控靶有1英寸2英寸3英寸可以選擇,客戶(hù)可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選擇;所配電源為300W射頻電源,可用于非金屬膜、光學(xué)膜的濺射,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來(lái)實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
圖片來(lái)源: