DS-2000/14K 無掩膜單面激光光刻機

DS-2000/14K 無掩膜單面激光光刻機

1．技術特征
。采用 DMD 作為數字掩模，像素數 1024×768
。采用 14 倍縮小投影光刻物鏡成像。
。采用技術——積木錯位蠅眼透鏡實現均明。
。具備對準功能
。采用進口精密光柵、進口電機、進口導軌、進口絲杠實現精確工件定位和曝光拼接，可適應 100mm?100mm 基片。
。采用 CCD 檢焦系統實現整場調平、自動逐場調焦或自動選場調焦曝光。

2．技術參數
。光源：350W 球形汞燈（曝光譜線： i 線）或紫外LED；
。照明不均勻性：2%；
。物鏡倍率：14 倍
。曝光場面積：1mm×0.75mm
。光刻分辨力：1 μm
。工件臺運動范圍：X：100mm、 Y：100mm；
。工件臺運動定位精度：±0.65μm；
。調焦臺運動靈敏度：1μm；
。對準精度：±2μm；
。調焦臺運動行程：6mm
。檢焦：CCD 檢測，檢測精度 2 微米
。轉動臺行程：±6°以上
?；叽?br />。外徑: 。1mm—100mm，厚度：0.1mm--5mm

3．外形尺寸：840mm（長）x450mm(寬) x830mm（高）

4．配置
（1）照明系統
。350W 直流汞燈（或 LED）、橢球鏡、準直鏡、蠅眼透鏡組、場鏡組、365nm 濾光片、氣動快門、DMD（美國德州儀器）、冷卻風扇。
。投影物鏡：縮小倍率 14 倍
。分辨力 1μm

（2）工件臺系統
。X 臺：電機驅動器（日本樂孜）、絲杠（日本 NSK）、導軌 2（日本 THK）、光柵（美國）
。Y 臺：電機及驅動器（日本樂孜）、絲杠（日本 NSK）、導軌 2（日本 THK）、光柵 2（美國）
。轉動臺：電機及驅動器（日本樂孜），轉動軸系
。Z 臺：電機及驅動器（日本樂孜）、絲杠、上升導向機構
。承片臺：4 英寸（可增加 3 英寸、2 英寸、1 英寸等）

（3）檢焦系統
。焦面光學檢測系統、CCD、焦面檢測軟件

（4）對準系統
。對準光學檢測系統、CCD、對準軟件

（5）電控系統
。汞燈電源及觸發(fā)器、主機控制系統、軟件、計算機、監(jiān)視器（19 英寸液晶）、接口

（6）氣動系統
。電磁閥、旋轉氣缸、減壓閥、壓力表、真空表

（7）其他附件
。真空泵一臺(無油泵)
?？諌簷C一臺（*泵）
。管道