HHV BT150和BT300
適用于電鏡樣晶制備以及其他常規(guī)科研用途的新型臺式鍍膜設(shè)備
技術(shù)信息：
BT150
腔室：真空玻璃制，圓柱體165mm直徑×150mm高，配內(nèi)爆防護罩；可選配200mm高度的腔室
初級真空泵： 12時／h抽速的雙級旋片真空泵；可選配無油干泵
分子泵（選項）：621/s抽速的渦輪分子泵
極限真空（無分子泵）：5×10E-2mba「（3分鐘內(nèi)）
極限真空（有分子泵） ：5×10E-5mba「（8分鐘內(nèi)）
輸入電源： 110/230V, 50/60Hz，單相
工藝附件
金屬濺射：單個濺射靶槍（54mm直徑靶材）
適用濺射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, C「等
射選項：用于濺射易氧化的金屬（如Al），需配置分子泵選項
碳纖維蒸發(fā)： 脈沖沉積，可選擇電流及除氣模式
碳棒蒸發(fā)：脈沖沉積，可選擇電流及除氣模式
水冷SEM樣品臺： 6個SEM樣品位，水冷和偏壓功能
旋轉(zhuǎn)SEM樣品臺：6個SEM樣品位，單軸旋轉(zhuǎn)或行星運動式
常規(guī)科研用旋轉(zhuǎn)樣品臺：適合4” 或100mm直徑基片
BT300
腔室： 真空玻璃制，圓柱體30mm直徑×150mm高，配內(nèi)爆防護罩；可選配200mm高度的腔室
初級真空泵：12時／h抽速的雙級旋片真空泵；可選配無油干泵
分子泵（選項）：621/s抽速的渦輪分子泵
極限真空（無分子泵）：5×10E-2mba「（12分鐘內(nèi)）
極限真空（有分子泵）： 5×10E-5mba「（20分鐘內(nèi)）
輸入電源： 110/230V, 50/60Hz，單相
工藝附件
金屬濺射： 單個、 雙個或者三個濺射靶槍（54mm直徑靶材）
適用射靶材：Au, Au/Pd, Cu, Fe, Cr等
濺射選項：用于濺射易氧化的金屬（如Al），需配置分子泵選項
旋轉(zhuǎn)樣品臺：常規(guī)科研用，適合4” 或100mm直徑基片（雙靶），或150mm直徑基片（三靶）
行星運動式樣品臺： 常規(guī)科研用，優(yōu)化沉積均勻性，適合200mm直徑基片（三靶）
認證標識：BT150和BT300具有CE標識
主要特點
簡單的操作
會全彩、 高分辨率、 觸摸屏控制系統(tǒng)
為可存儲和編輯工藝配方多達30個
會工藝數(shù)據(jù)可輸出到大容量存儲器或計算機
會可選的集成式薄膜厚度監(jiān)測儀
為自動識別工藝附件
工功能的薄膜沉積技術(shù)
會惰性金屬濺射（SEM應(yīng)用）
為碳纖維及碳棒蒸發(fā)（TEM應(yīng)用）
會用于碳膜表面的親水改性的輝光放電裝置（TEM應(yīng)用）
會普通金屬的濺射鍍膜（常規(guī)科學(xué)研究應(yīng)用， 需要配分子泵選項）
會金屬的熱阻蒸發(fā)鍍膜
為自動快門擋板的選項
多種樣晶臺
為水冷及偏壓的SEM樣品臺
女旋轉(zhuǎn)的SEM樣品臺
為行星式運動的SEM樣品臺
會適合4” 或100mm直徑基片的旋轉(zhuǎn)樣品臺（BT150)
為適合8” 或200mm直徑基片的旋轉(zhuǎn)／行星運動式樣品臺（BT300)
新型設(shè)計的HHV BT150和BT300是面向電鏡工作者及科學(xué)研究者需求的經(jīng)濟型臺式鍍膜系統(tǒng)。BT150己具有電鏡工作者所需
的全面鍍膜能力， 而BT300配置了更大的真空腔室， 可滿足更廣泛的其他常規(guī)科研鍍膜應(yīng)用。
通常情況下， 這些系統(tǒng)采用金屬濺射來制備SEM樣品， 而采用碳纖維（或碳棒）蒸發(fā)來制備TEM樣品。碳蒸發(fā)鍍膜也可以用
于×射線微區(qū)分析的樣品。
BT系列系統(tǒng)還可配置成適合于常規(guī)科學(xué)研究需求的金屬濺射及金屬蒸發(fā)能力。
具有自動樣晶鍍膜能力的觸摸屏操控系統(tǒng)
為了使用方便， 這兩款BT設(shè)備都配置了彩色的、 高分辨率的觸摸屏操控系統(tǒng)?？刂葡到y(tǒng)可存儲多達30個工藝配方程序， 可隨
時調(diào)用執(zhí)行?？刂葡到y(tǒng)能向外輸出工藝數(shù)據(jù) 便于存儲及分析。它還能自動識別所安裝的工藝附件。
種類繁多的可選樣晶臺
BT系列設(shè)備具有多種樣品臺可供選擇。用于承載SEM樣品座的靜態(tài)樣品臺具有水冷功能， 可防止樣品過熱， 而且還含有濺射
刻蝕及清洗的裝置。使用刻蝕裝置可以提高某些樣品的圖像對比度， 而不太脆弱的樣品還能通過刻蝕來去除吸附的水汽， 從而改善薄膜附著力。
BT150可選擇旋轉(zhuǎn)甚至行星運動式設(shè)計的樣品臺， 基片尺寸可達4英寸或者100mm。而BT300也可選擇類似的旋轉(zhuǎn)樣品臺，其基片尺寸可達8英寸或者200mm， 滿足更廣泛的研究需要。
集成的薄膜厚度測量儀
BT系列設(shè)備的選項中包括全集成式的薄膜厚度監(jiān)測系統(tǒng)。該系統(tǒng)集成在觸摸屏控制器內(nèi)， 可提供濺射膜厚的控制。
簡單的靶材更換
BT150和BT300采用簡單快速的靶材更換設(shè)計， 在必要時可對樣品進行不同材料的鍍膜。配置旋片泵的系統(tǒng)可以濺射惰性金屬，如金、 金／tE、 鈾和銅。增加可選的分子泵之后， 這兩款系統(tǒng)還能濺射容易氧化的金屬， 比如鋁。
真空泵選項
BT系列設(shè)備可以配置雙級旋片真空泵， 用于碳蒸發(fā)及惰性金屬濺射等普通應(yīng)用。而可選的分子泵可以提供設(shè)備更優(yōu)秀的性能：真正的高真空環(huán)境， 以及濺射非惰性金屬（比如鋁）的能力。
BT系列設(shè)備也可以配置干式真空泵， 滿足無油真空的要求。
安全設(shè)計及認證
BT150和BT300具有完善的安全使用及互鎖設(shè)計， 確保操作人員安全。這些設(shè)備可以提供CE標識以及UL認證。
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