法國Plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) SSDR 150
SSDR150 微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)專門用于合成 CVD 金剛石薄膜,能夠制備高純單晶(需高純氣源)、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光學(xué)級窗口。SSDR150 不斷優(yōu)化的微波及等離子體設(shè)計(jì),是一款可靠的、穩(wěn)定的、長時(shí)間運(yùn)行的金剛石薄膜生長系統(tǒng),能夠地適用于高??蒲泻推髽I(yè)生產(chǎn)。
SSDR150 系統(tǒng)特點(diǎn)
。 鋁合金腔體+內(nèi)置石英管反應(yīng)室,支持長時(shí)間高功率下工作
。工藝氣壓可達(dá) 350 mbar 或更高,可以高速率生長單晶
。微波源為 2.45GHz、功率 6 kW,高耦合效率
。標(biāo)準(zhǔn)配置 4 條氣路,最多可增加至 7 條氣路(摻雜氣路)
。2 英寸水冷樣品臺(tái),高度電動(dòng)可調(diào)、精度優(yōu)于 10μm (可選)
。雙色紅外高溫計(jì)測試樣品表面溫度,范圍 475-1475 °C
。愛德華茲分子泵+ 干泵,真空度≤ 3×10-7 mbar
。高水平金剛石生長工藝培訓(xùn)及演示(內(nèi)容根據(jù)應(yīng)用而定)
。全自動(dòng)控制、半自動(dòng)和手動(dòng)可用,圖形化操作界面(GUI)
。多級用戶設(shè)置和管理、遠(yuǎn)程診斷和維護(hù)、數(shù)據(jù)導(dǎo)出接口
。多用途:高純度單晶、厚單晶、大單晶、摻雜、光學(xué)窗口
。設(shè)備維護(hù)少、安全、可靠、穩(wěn)定、性價(jià)比高
應(yīng)用領(lǐng)域
。切削刀具、耐磨涂層、熱沉材料、SAW
。光學(xué)窗口、激光晶體、電化學(xué)電極、CNT
。生物傳感器、微機(jī)電系統(tǒng)、光電探測器
。商用寶石、低壓高溫退火處理、量子計(jì)算
SSDR150 性能表現(xiàn)
多晶金剛石:
• 液氮溫度下 PL 檢測 無明顯氮
• 生長速率: 高達(dá) 10 μm/h, 取決于生長工藝
• 生長速率: 高達(dá) 20 μm/h, 取決于生長工藝條件