PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產型原子層沉積機
技術參數：
襯底尺寸和類型
。156 mm x 156 mm硅片800～1000片/批次（雙面/背對背）
。高達400 mm x 600 mm玻璃基板30～50片/批次（雙面/背對背）
。大批量的3D產品（例如：鐘表部件，珠寶，硬幣，醫(yī)療植入部件，機械部件等）
。多孔，通孔，高深寬比（HAR）樣品
工藝溫度： 50 - 500 °C
基片傳送選件：
。氣動升降（手動裝載，帶叉車forklift cart）
。全自動轉載，用工業(yè)機器人實現
前驅體：
。液態(tài)、固態(tài)、氣態(tài)、臭氧源
。前驅源余量傳感器，并提供清洗和裝源服務
。8根獨立源管線，最多加載12個前驅體源
重量： 2000 kg
尺寸：(W x H x D) 230 cm x 270 cm x 125 cm
選件： PICOFLOW™ 擴散增強器，N2發(fā)生器，尾氣處理器，定制設計，與工廠軟件連接服務。
驗收標準： 標準設備驗收標準為 Al2O3 工藝
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