nanoArch 微納3D打印機(jī) P130/S130
nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。
科研級(jí)3D打印系統(tǒng)
nanoArch P130是科研級(jí)3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
NanoArch P130/S130系統(tǒng)性能:注:樣品高度典型2mm,10mm
nano Arch P130產(chǎn)品規(guī)格:
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:光敏樹脂
光學(xué)精度:2μm
XY打印精度:2-10μm
打印層厚:5-20μm
打印樣品尺寸:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)
打印件格式:STL
系統(tǒng)外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³
重量:450kg
電氣要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW
nano Arch S130產(chǎn)品規(guī)格:
光源:UV-LED(405nm)
打印材料:光敏樹脂
光學(xué)精度:2μm
XY打印精度:2-10μm
打印層厚:5-20μm
打印樣品尺寸:模式1:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)
模式2:38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)
模式3:50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)
打印件格式:STL
系統(tǒng)外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³
重量:450kg
電氣要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW
打印材料:
。通用型:丙烯酸類光敏樹脂,如HDDA,PEGDA等
。個(gè)生化:高強(qiáng)度硬性樹脂,納米顆粒摻雜樹脂,生物科研樹脂等。
系統(tǒng)特性:
。高精度:XY打印精度高達(dá)2μm;
。低層厚:5μm-20μm的打印層厚;
。微尺度打印能力;
。光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),自動(dòng)對(duì)焦功能;
。配置氣浮平臺(tái),提高打印質(zhì)量;
。優(yōu)良的光源穩(wěn)定性;
。配備完善的樣品后處理組件,包括抽真空及紫外后固化。