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P130/S130微納3D打印機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/14 8:44:35
  • 訪問次數(shù)476
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
nanoArch微納3D打印機(jī) P130/S130 ,科研級(jí)3D打印系統(tǒng),擁有2m的超高打印精度和5m的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。
P130/S130微納3D打印機(jī) 產(chǎn)品信息

nanoArch 微納3D打印機(jī) P130/S130

nanoArch P130是可以實(shí)現(xiàn)高精度微尺度3D打印的設(shè)備系統(tǒng),它采用的是面投影微立體光刻(PμLSE:Projection Micro Litho Stereo Exposure)技術(shù)。該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢(shì),被認(rèn)為是目前前景的微納加工技術(shù)之一。

科研級(jí)3D打印系統(tǒng)

nanoArch P130是科研級(jí)3D打印系統(tǒng),擁有2μm的超高打印精度和5μm的超低打印層厚,從而實(shí)現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。

NanoArch P130/S130系統(tǒng)性能:注:樣品高度典型2mm,10mm

nano Arch P130產(chǎn)品規(guī)格:

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏樹脂

光學(xué)精度:2μm

XY打印精度:2-10μm

打印層厚:5-20μm

打印樣品尺寸:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

打印件格式:STL

系統(tǒng)外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量:450kg

電氣要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW

nano Arch S130產(chǎn)品規(guī)格:

光源:UV-LED(405nm)

打印材料:光敏樹脂

光學(xué)精度:2μm

XY打印精度:2-10μm

打印層厚:5-20μm

打印樣品尺寸:模式1:3.84mm(L)x2.16mm(W)x10mm(H)

模式2:38.4mm(L)x21.6mm(W)x10mm(H)

模式3:50mm(L)x50mm(W)x10mm(H)

打印件格式:STL

系統(tǒng)外形尺寸:1720(L)x650(W)x1820(H)mm³

重量:450kg

電氣要求:200-240V,AC,50/60HZ,3KW



打印材料:

。通用型:丙烯酸類光敏樹脂,如HDDA,PEGDA等

。個(gè)生化:高強(qiáng)度硬性樹脂,納米顆粒摻雜樹脂,生物科研樹脂等。



系統(tǒng)特性:

。高精度:XY打印精度高達(dá)2μm;

。低層厚:5μm-20μm的打印層厚;

。微尺度打印能力;

。光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng),自動(dòng)對(duì)焦功能;

。配置氣浮平臺(tái),提高打印質(zhì)量;

。優(yōu)良的光源穩(wěn)定性;

。配備完善的樣品后處理組件,包括抽真空及紫外后固化。

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