MAXIM 二次離子濺射中性粒子質(zhì)譜儀可分析二次陰、陽離子動態(tài)和中性粒子,所具備的的30°接受角可形成樣品粒子平面,應(yīng)用于SIMS和SNMS的光學(xué)采樣。
·光柵控制,增強(qiáng)深度分析能力
·所有能量范圍內(nèi),離子行程的最小擾動,及恒定離子傳輸
·靈敏度高 / 穩(wěn)定的脈沖離子計(jì)數(shù)檢測器
·質(zhì)量數(shù)范圍: 300amu,500amu,1000amu
·檢測器: 離子計(jì)數(shù)探測器、正負(fù)離子探測器、107 cps
·質(zhì)量過濾器: 3F四級桿
·桿直徑: 9mm
·加熱: 250℃
·離子源: 電子轟擊,可用于SNMS和RGA的單根燈絲
MAXIM - Quadrupole SIMS Analyser (562 KB)
AP0088 - Metal-Carbon Composites and Multilayer Thin Films Prepared by Plasma Assisted Sequential Deposition (293 KB)
AP0128 - Magnesium Nitride Phase Formation Through New Ion Beam Implantation Technique (406 KB)