詳細摘要： 日本電子JEOL大功率電子槍?電源EBG-300UA，JEBG-1000UB，JEBG-3000UB，是用來在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，...

詳細摘要： 日本JEOL高頻感應(yīng)等離子體發(fā)生器 TP，通過高頻感應(yīng)加熱產(chǎn)生大約1萬度的熱等離子體，經(jīng)過物理/化學(xué)反應(yīng)過程，能合成納米顆粒及厚膜(鍍膜)。

詳細摘要： 日本JEOL BS/JEBG/EBG 系列電子槍，用于光學(xué)薄膜及電極膜等各種薄膜形成的電子束蒸鍍用電子槍/電源。

詳細摘要： 日本JEOL BS/JST系列電子槍/電源，日本JEOL BS/JST系列電子槍/電源

詳細摘要： 日本JEOL大功率電子槍/電源EBG-300UA,JEBG-1000UB,JEBG-3000UB，是在真空中蒸發(fā)或熔解金屬及氧化物的大功率電子束發(fā)生源，能在不斷...

詳細摘要： 日本JEOL BS-80020CPPS等離子體源，是用于輔助低溫（100℃以下等）下塑料基板和膠片成膜的等離子體源。

詳細摘要： 日本JEOL BS-80011BPG產(chǎn)生高密度等離子體的內(nèi)置型等離子源，安裝在真空室內(nèi)產(chǎn)生高密度等離子體的等離子體源。利用和真空蒸鍍結(jié)合的等離子體輔助沉積技術(shù)（...

詳細摘要： 日本JEOL RF-120系列高頻電源，是濺射、刻蝕、CVD、離子鍍等薄膜制備/加工使用的、用于生成等離子體的13.56MHz高頻電源（RF電源）。

詳細摘要： 日本JEOL TP-99010FDR 粉末供應(yīng)裝置，用氣體通過管道定量輸送粉末的送粉器。

詳細摘要： 日本JEOL JBX-9500FS　電子束光刻系統(tǒng)，是一款100kV圓形束電子束光刻系統(tǒng)，兼的產(chǎn)出量和定位精度，能容納300mm的晶圓片和6英寸的掩模版，適合納...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-6300FS 電子束光刻系統(tǒng)，在100kV的加速電壓下能自動調(diào)整直徑為（計算值）2.1nm的電子束，簡便地描畫出線寬在8nm以下（實際可達...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-3200MV 電子束光刻系統(tǒng)，是用于制作28nm～22/20nm節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系...

詳細摘要： 日本JEOL JBX-3050MV 電子束光刻系統(tǒng)，用于制作45nm～32nm 節(jié)點的掩模版/中間掩模版（mask/reticle）的可變矩形電子束光刻系統(tǒng)。 ...

詳細摘要： 日本JEOL電子自旋共振譜儀 JES-X310，X320，經(jīng)過進一步改良低噪音耿氏振蕩器，達到了*的靈敏度。由于人們已經(jīng)認識到樣品中極少量的未成對電子會在很大程...

詳細摘要： 日本RIBM HS-AFM超高速視頻級原子力顯微鏡，突破了 掃描成像速慢的限制，掃描速度可達 20 frame/s，并且有 4 種掃描臺可供選擇。樣品無需特殊固...

詳細摘要： 日本JEOL JNM-ECZR 系列 核磁共振譜儀，是高度結(jié)合了數(shù)字技術(shù)和高頻技術(shù)研制的脈沖傅里葉變換核磁共振儀。電路的高度集成化提高了譜儀的可靠性、實現(xiàn)了機體...

詳細摘要： JNM-ECZS 核磁共振譜儀，不僅具有高性能，還進一步實現(xiàn)了譜儀的小型化。 高級軟件和自動化技術(shù)，使常規(guī)測試全部實現(xiàn)了自動化。超高靈敏度自動調(diào)諧探頭包括了Su...

詳細摘要： 日本JEOL JSX-1000S型X射線熒光光譜儀采用觸控屏操作、提供更加簡便迅速的元素分析。具備常規(guī)定性、定量分析（FP法?檢量線法）、RoHS元素篩選功能等...

詳細摘要： 日本JEOL JIB-4700F 雙束加工觀察系統(tǒng)，該設(shè)備的SEM鏡筒中采用了超級混合圓錐形物鏡、GB模式和in-lens檢測器系統(tǒng)，在1kV低加速電壓下,實現(xiàn)...

詳細摘要： 日本JEOL JIB-4000 聚焦離子束加工觀察系統(tǒng)，配置了高性能的離子鏡筒(單束FIB裝置)。被加速了的鎵離子束經(jīng)聚焦照射樣品后，就能對樣品表面進行SIM觀...