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SI 500 等離子刻蝕機(jī) 詳細(xì)摘要： ICP-RIE SI 500 德國(guó)Sentech等離子刻蝕機(jī), 等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。通過在廣...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-13 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
Etchlab200 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí)) 詳細(xì)摘要： Etchlab200 德國(guó)Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí)), 具備低成本效益高的特點(diǎn)，并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過載...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-13 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： 德國(guó)Sentech 200 RIE 離子刻蝕與沉積系統(tǒng) ，將平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接負(fù)載相結(jié)合。根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì)，Etchlab 200可以升級(jí)為更大的抽油機(jī)...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-13 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
PE-ALD 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PE-ALD 德國(guó)Sentech 等離子體增強(qiáng)原子層沉積機(jī)，是在3D結(jié)構(gòu)上逐層沉積超薄薄膜的工藝方法。薄膜厚度和特性的精確控制通過在工藝循環(huán)過程中在真空腔室分步...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-13 參考價(jià)： 面議 在線留言