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OCTOPLUS 500 德國(guó)MBE分子束外延系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： OCTOPLUS 500 MBE系統(tǒng)是為了在6英寸襯底上生長(zhǎng)高質(zhì)量的III/V族或者II-VI族異質(zhì)結(jié)構(gòu)材料而研發(fā)專業(yè)分子束外延系統(tǒng)。樣品臺(tái)選用熱解石墨加熱或者...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-22 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
OCTOPLUS 400德國(guó)MBE分子束外延系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： OCTOPLUS 400 是一款通用型MBE系統(tǒng)，非常適合于III/V族， II/VI族，及其他復(fù)合半導(dǎo)體材料應(yīng)用。兼容2-4英寸標(biāo)準(zhǔn)晶片。豎直分割式腔體設(shè)計(jì)，...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-22 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P180脈沖激光沉積系統(tǒng) & PED-180 脈沖電子束沉積系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： 美國(guó)Neocera PLD 脈沖激光沉積系統(tǒng) P180 , 一種用途廣泛的、用于薄膜沉積以及納米結(jié)構(gòu)和納米粒子合成的方法. PED 脈沖電子束沉積系統(tǒng) PED-...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-21 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000 詳細(xì)摘要： 日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000，采用磁控型電極，限度地減輕對(duì)樣品的損壞。
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-20 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
英國(guó)HHV桌上型濺射鍍膜儀BT150和BT300 詳細(xì)摘要： 英國(guó)HHV桌上型濺射鍍膜儀BT150和BT300，新系列小型桌上系統(tǒng)，觸摸屏顯示控制，適合于SEM及TEM電鏡樣品制備及常規(guī)科研的全功能系統(tǒng)。
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-20 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
SSDR 150 微波等離子化學(xué)氣相沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： 法國(guó)Plassys微波等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng) SSDR 150，專門用于合成 CVD 金剛石薄膜，能夠制備高純單晶(需高純氣源）、厚單晶、大單晶、多晶薄膜、光...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-20 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
Vapour Station 4 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī) 詳細(xì)摘要： 英國(guó)Oxford Vacuum 電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)Vapour Station 4 微納器件樣品制備系統(tǒng)，該電子束蒸發(fā)鍍膜儀是一款微納器件樣品制備系統(tǒng)，為有機(jī)無(wú)機(jī)...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-20 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
荷蘭TSST脈沖激光沉積/激光分子束外延系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： 荷蘭TSST脈沖激光沉積/激光分子束外延系統(tǒng)，在真空環(huán)境下利用脈沖激光對(duì)靶材表面進(jìn)行轟擊，利用激光產(chǎn)生的局域熱量將靶材物質(zhì)轟擊出來(lái)，再沉積在不同的襯底上，從而形...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-20 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
208HR 高分辨離子濺射儀 詳細(xì)摘要： 英國(guó)Cressington/US TedPella 208HR 高分辨離子濺射儀-適用于場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-19 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
TF500/TF600 適合*研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng) 詳細(xì)摘要： TF500/TF600 適合*研發(fā)和試生產(chǎn)的全功能系統(tǒng)，具有高級(jí)工藝能力。系統(tǒng)配置可選擇多種腔室尺寸和工藝附件，以精確的符合用戶需求。這兩個(gè)型號(hào)的系統(tǒng)都可以安裝...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-17 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
Auto306英國(guó)HHV多功能鍍膜機(jī) 詳細(xì)摘要： 英國(guó)HHV Auto306 科研工作者和電子顯微學(xué)家的多功能鍍膜設(shè)備,可配備各種真空系統(tǒng)、真空腔室和標(biāo)準(zhǔn)化工藝附件，提供一系列實(shí)驗(yàn)技術(shù)以滿足現(xiàn)代化實(shí)驗(yàn)室的需要。...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-17 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
Auto500 GB英國(guó)HHV適合手套箱集成的真空鍍膜機(jī) 詳細(xì)摘要： 英國(guó)HHV Auto500 GB 適合手套箱集成的真空鍍膜系統(tǒng)
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-17 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
108AUTO 自動(dòng)離子濺射儀 詳細(xì)摘要： 英國(guó) Cressington （US market: Ted Pella） 108Auto 全自動(dòng)離子濺射鍍膜儀 ， 是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-15 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
德國(guó)Sentech PE-ALD 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積 詳細(xì)摘要： 德國(guó)Sentech PE-ALD 等離子體增強(qiáng)--原子層沉積，SENTECH基于多年研發(fā)制造PECVD和ICPECVD的經(jīng)驗(yàn)，包括專有的PTSA技術(shù)，推出臺(tái)PE...
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-15 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PICOSUN P-1000 Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-300 Advanced ALD 高級(jí)型原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PICOSUN P-300 Advanced ALD 高級(jí)型原子層沉積機(jī)
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-300B Advanced ALD 高級(jí)原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： P-300B Advanced ALD 高級(jí)原子層沉積機(jī)，基片尺寸和類型 300mm晶圓10片/批次（標(biāo)準(zhǔn)間距）
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-300S Pro ALD 原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PICOSUN P-300S Pro ALD 原子層沉積機(jī)，
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-300F ，P-300BV Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PICOSUN P-300F ，P-300BV Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)，襯底尺寸和類型 200 mm 晶圓 25 + 2片/批次 (標(biāo)準(zhǔn)間距)。
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言 -
P-200S Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) 詳細(xì)摘要： PICOSUN P-200S Pro ALD 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī) ，由兩臺(tái)PICOSUN P-200S ALD設(shè)備組成，帶等離子體源PICOPLASMA。
產(chǎn)品型號(hào)： 所在地： 更新時(shí)間：2021-07-14 參考價(jià)： 面議 在線留言