當(dāng)前位置:成都紐曼和瑞微波技術(shù)有限公司>>多用途微波等離子體(CVD)系統(tǒng)>> HMPS-2050多用途微波等離子體(CVD)系統(tǒng)
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產(chǎn)品型號HMPS-2050
品 牌
廠商性質(zhì)生產(chǎn)商
所 在 地成都市
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更新時間:2017-07-02 13:08:24瀏覽次數(shù):5646次
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作者:0 來源:0 瀏覽:91次 更新:2007-11-22 15:06:13 | ||||||||||||||||||||||||||||
HMPS-2050多用途微波等離子體(CVD)系統(tǒng) 技術(shù)特點及用途 ● 系統(tǒng)采用HMG-2050,5Kw/2450MHz高穩(wěn)定程控微波功率源。運用完善的線路安全閉鎖控制系統(tǒng),使該系統(tǒng)工作壽命長,電氣性能優(yōu)良,安全可靠,操作簡單方便。 ● 微波傳輸系統(tǒng)由高性能微波環(huán)行器,銷釘調(diào)配器,帶反射波取樣的水負(fù)載以及外部連接波導(dǎo)組成。它確保反射波對磁控管的良好隔離,并能方便地調(diào)節(jié)*匹配,達(dá)到微波功率的*傳輸。 ● 下注式微波反應(yīng)腔可在很寬的運行范圍內(nèi)把微波功率耦合給等離子體,在等離子體放電室中產(chǎn)生高密度、高電離度、大面積均勻穩(wěn)定的微波放電。為確保穩(wěn)定工作, 腔壁采用雙層水冷。 ● 多端口等離子體放電腔帶8~12個端口,是雙層水冷結(jié)構(gòu)的大容積放電腔。 ● 系統(tǒng)主要用途: 1)金剛石等多種薄膜的化學(xué)汽相沉積的研究和中試加工;2)基片的刻蝕和灰化;3)作為高密度、寬束離子源;4)低溫氧化物的生長;5)等離子體表面處理和其它實驗加工。
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