DH-GCVD 系列 石墨烯化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)

DH-GCVD 系統(tǒng)兼容真空及常壓兩種主流的生長模式，可采用計(jì)算機(jī)自動(dòng)控制，工作在常壓氣氛或真空條件，通過控制，可以在 10 -3 Torr—760Torr 之間的任意氣壓下進(jìn)行石墨烯的生長。既可以生長出六邊形的石墨烯單晶，也可以生長出花瓣?duì)畹氖﹩尉?。整個(gè)石墨烯生長過程的重要參數(shù)由計(jì)算機(jī)進(jìn)行精確控制，包括溫度、氣體流量等?？刂栖浖?nèi)置多種生長優(yōu)化參數(shù)，用戶僅將襯底放入樣品腔，即可開始生長。將為科研人員提供大量的研究機(jī)會(huì)，以及為實(shí)現(xiàn)各種科學(xué)想法創(chuàng)造了條件。

主要用途和適用范圍

系統(tǒng)主要為高等院校，科研院所等單位的實(shí)驗(yàn)室提供專業(yè)的石墨烯生長設(shè)備。是一套完備的石墨烯制備系統(tǒng)，包括硬件和軟件部分。

技術(shù)參數(shù)