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詳細(xì)介紹
1400X：真空/氣氛管式爐CVD系統(tǒng)(CVD-TF)
CVD-TF14P40/50/60/80 CVD-TF14T40/50/60/80
提供具有真空、可控氣氛及高溫的實驗環(huán)境，應(yīng)用在半導(dǎo)你、納米技本、碳纖維等領(lǐng)域
■產(chǎn)品用途：
此款CVD生長系統(tǒng)適用于CVD工藝，如碳化硅鍍膠、陶瓷基片導(dǎo)電率測試、ZnO納米結(jié)構(gòu)的可控生長、陶瓷電容< MLCC } 氣氛燒結(jié)等實驗。
■產(chǎn)品特點：
• 爐膛采用多晶莫來纖維真空吸附制成，溫場均勻節(jié)能50%以上
參 啟動電爐，排溫風(fēng)機(jī)同時自動運(yùn)行，試驗結(jié)束后，排濕風(fēng)機(jī)將繼續(xù)運(yùn)行，直至爐體溫度低于6 (/0 ,排溫風(fēng)機(jī)自行停止，有效保護(hù)了爐體表面
• 自動斷電、超溫保護(hù)功能、漏電保護(hù)功能，以確保使用的安全性
• 電路采用連續(xù)加熱輸出方式，雙回路供電，強(qiáng)弱電單獨走線提高了系統(tǒng)的穩(wěn)定性
• 加熱模塊采用直流佶號調(diào)節(jié)輸出功率，避免了感應(yīng)電對控制倍號的干擾
• 自動補(bǔ)償由于濕度或老化對硅碳棒限值變化帶來的控溫影晌，避免人為調(diào)節(jié)的不準(zhǔn)確性和危險性
• 采用數(shù)顯流呈顯示儀，配合質(zhì)呈流呈控制器，采集數(shù)據(jù)并控制流呈。具有控制精度高，道復(fù)性好，相應(yīng)速度快，穩(wěn)定可靠等特點。
(氣體質(zhì)至流呈控制系統(tǒng)}
• 自動控制與手動控制切換功能，自動控制模式能通過設(shè)定值自動開啟/關(guān)閉真空泵，使容器內(nèi)保持在一定的真空壓力范圍內(nèi)。手動控制模式使用用戶通過真空泵開啟/關(guān)閉按鈕直接操作真空泵。以滿足不同實驗的甭要。 {中真空控制系統(tǒng)）
• 電磁閻緩啟動技術(shù)，使電磁閥在真空泵開啟10秒鐘后打開，使?fàn)t管內(nèi)系統(tǒng)壓力保持準(zhǔn)確，也保證了廢氣不會返回到爐筲系統(tǒng)影響實驗效果（中真空控制系統(tǒng)）
■5全性：
< 過升報警、菜單鎖定、過升防止、復(fù)電延時。
• 采用單向閥技術(shù)，使氣體流至在可控壓力范圍內(nèi)控制，保證安全。
•采用混氣罐裝s ，使氣體可以在充分混合后導(dǎo)入工作室內(nèi)，確保不會泄露。
■技術(shù)參數(shù):
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