圖片描述:
簡(jiǎn)單介紹:?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))配有一臺(tái)直流電源,一臺(tái)射頻電源,可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等往復(fù)式設(shè)計(jì),?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀(往復(fù)樣品臺(tái))的樣品臺(tái)采用往復(fù)式設(shè)計(jì),左側(cè)配有磁力耦合推桿,可將樣品臺(tái)左右推動(dòng)。
圖片來(lái)源: