雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀圖片

簡單介紹：雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀緊湊型磁控濺射系統(tǒng)，具有雙靶2"目標(biāo)源，例如，一個直流源用于涂覆金屬薄膜，另一個射頻源用于涂覆非金屬材料。雙靶高真空磁控等離子濺射鍍膜儀設(shè)計用于涂覆單層或多層薄膜，適用于各種材料，如合金、鐵電、半導(dǎo)體、陶瓷、電介質(zhì)、光學(xué)、聚四氟乙烯等。