一、應(yīng)用領(lǐng)域
該設(shè)備在同一真空室內(nèi)具有熱蒸發(fā)和磁控濺射鍍膜功能,用于各種單層膜、多層膜和摻雜膜系沉積;可鍍各種硬質(zhì)膜、金屬膜、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷膜、介質(zhì)復(fù)合膜,亦可鍍鐵磁材料。
二、性能參數(shù)
1. 極限真空壓力:8×10-5 Pa;
2. 磁控靶:2只 靶直徑:Φ50,配電(氣)動擋板;
3. 恢復(fù)真空抽氣時間(min):<30;
4. 真空室:Φ500×550;
5. 蒸發(fā)電極: 2對 2KW 配電(氣)動擋板;
6. 樣品臺:公自轉(zhuǎn),公轉(zhuǎn):2-20rpm可調(diào);
7. 偏壓、膜厚儀、薄膜規(guī)、樣品臺加熱可選;