一、光氧催化廢氣處理設(shè)備：
1.本產(chǎn)品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結(jié)構(gòu)，使有機(jī)或無(wú)機(jī)高分子惡臭化合物分子鏈，在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。
2 .利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。 UV＋O2→O- O＊(活性氧)O O2→O3(臭氧),臭氧對(duì)有機(jī)物具有的氧化作用，對(duì)惡臭氣體及其它刺激性異味有的清除效果。
3. 惡臭氣體利用排風(fēng)設(shè)備輸入到本凈化設(shè)備后，凈化設(shè)備運(yùn)用高能UV紫外線光束及臭氧對(duì)惡臭氣體進(jìn)行協(xié)同分解氧化反應(yīng)，使惡臭氣體物質(zhì)其降解轉(zhuǎn)化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過(guò)排風(fēng)管道排出室外。
4.利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細(xì)菌的分子鍵，破壞細(xì)菌的核酸(DNA)，再通過(guò)臭氧進(jìn)行氧化反應(yīng)，達(dá)到脫臭及殺滅細(xì)菌的目的．
二、光氧催化廢氣處理設(shè)備適用范圍：
煉油廠、橡膠廠、皮革廠、印刷廠、化工廠、中西藥廠、金屬鑄造廠、塑料再生廠、噴涂溶劑等有機(jī)和無(wú)機(jī)物惡臭氣體的脫臭凈化處理、餐飲業(yè)、噴漆車間、油墨印刷、噴涂車間、化工、醫(yī)藥、橡膠、食品、印染、造紙、釀造等生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的有毒有害廢氣。
三、光氧催化廢氣處理設(shè)備技術(shù)特點(diǎn)：
1、高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物（VOC）、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高可達(dá)到99%以上，脫臭效果大大*過(guò)**1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)（GB14554－93）。
2、無(wú)需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)備設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力，使惡臭氣體通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行脫臭分解凈化，無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。
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