硅片清洗超純水設備

　　硅片是半導體行業(yè)的重要基材。半導體器件制造中的硅片必須使用超純水設備制取的超純水仔細清洗，目的是去除表面污染雜質(包括有機物和無機物)，因為微量污染也能導致器件故障。

　　超純水開始是美國科技界為開發(fā)超純材料(半導體原始材料、納米精細陶瓷材料等)應用蒸餾、去離子化、反滲透技術或其他合適的超臨界精細技術生產的水?，F(xiàn)在超純水也廣泛用于芯片、精密儀器、電鍍涂裝、涂裝等清洗中。

　　硅片清洗對水質要求高，電阻率在18兆以上，因此超純水是很好的選擇。 超純水是一般水處理工藝難以達到的程度，水的電阻率大于18MΩ*cm，接近18.3MΩ*cm的稱為超純水。 超純水設備通過預處理、反滲透技術、超純化處理和后級處理等方法，幾乎除去水中的導電性介質，同時將在水中不解離的膠體物質、氣體和有機物除去到低水平的水處理設備。

　　廠家

　　硅片清洗超純水設備定制廠家-廣東環(huán)保，專業(yè)為硅片、單晶硅、多晶硅、觸摸屏等電子行業(yè)提供專用純水設備，產品具有出水穩(wěn)定，節(jié)能環(huán)保，節(jié)約人工，自動化程度高的特點。，支持全國上門安裝調試，送終身維護，讓您使用設備沒有后顧之憂。

　　價格

　　我們根據(jù)您的用水需求，定制不同出水量的超純水設備用于清潔硅片或者其他產品清洗，可定制從0.25t到500t不等的超純水系統(tǒng)，價格在10000起步，到十幾萬不等，設備越大價格會相對較高。如您需要了解詳細的純水制取裝置價格，聯(lián)系我們，我們將會安排專業(yè)的工程師給你選擇設備。

　　硅片清洗超純水設備的優(yōu)勢

　　廣川環(huán)保的硅片清洗超純水設備具有生產水水質穩(wěn)定、操作簡單、無廢棄物排放等特點，滿足了各企業(yè)硅片的用水需要。

　　1.硅片清洗用超純水設備的零部件均采用優(yōu)質產品。

　　2.質量可靠，整體化程度高，容易擴展，增加膜數(shù)可以增加處理量。

　　3 .自動化程度高，發(fā)生故障時立即自行停止，具有自動保護功能。功耗低，水利用率高，運行成本低。 結構合理，占地面積少。

　　4.膜模塊由復合膜卷成，顯示出更高的溶質分離率和滲透速度。

　　5.的膜保護系統(tǒng)，在設備關閉時，淡化水自動沖洗膜面污染物，延長膜壽命。

　　6.硅片清洗用超純水設備系統(tǒng)無易損件，無需大量維護，運行長期有效。

　　硅片清洗超純水設備的工藝

　　進入EDI系統(tǒng)，主要部分流入樹脂/膜內部，另一部分沿模板外側流動，沖洗膜外的離子。 樹脂捕集水中的溶解離子。 捕獲的離子通過電極，陰離子向正極方向移動，陽離子向負極方向移動。 陽離子透過陽離子膜，排出到樹脂/膜外。 陰離子透過陰離子膜，釋放到樹脂/膜外。 濃縮的離子從廢水通道排出， 離子水未從樹脂/膜內流出。

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