產(chǎn)品介紹：
名 稱：勻膠顯影機
型 號：SC200-DE
原產(chǎn)地：
應(yīng) 用：SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。
產(chǎn)品概述：
SC200-DE勻膠顯影機是一種既可用于精密勻膠操作，又可用于半導(dǎo)體顯影和清洗的臺面式設(shè)備，它可以實現(xiàn)價值百萬美元設(shè)備（track）的上才可能達(dá)到穩(wěn)定性和均勻性。
不銹鋼外殼比塑料或者烤漆金屬更耐久和美觀；工業(yè)級別400瓦伺服電機系統(tǒng)，采用與track設(shè)備相同設(shè)計和程序，使您的工藝更具有實際應(yīng)用意義；同類產(chǎn)品中的達(dá)到50000RPM/S的旋轉(zhuǎn)加速度，確保勻膠和顯影的穩(wěn)定性和的可重復(fù)性。
性能參數(shù)：
n 主機機箱采用不銹鋼材料（抗化學(xué)腐蝕易清潔）
n 旋涂程序：最多可存100組程序，每組100步，每個步驟可精確到0.1秒
n 轉(zhuǎn)動速度：0-5,000rpm（更高速可選）
n 旋涂加速度：0-10,000rpm/sec（空載）
n 馬達(dá)旋涂轉(zhuǎn)速穩(wěn)定性能誤差 < ±1rpm
n 轉(zhuǎn)速調(diào)節(jié)精度<1rpm，重復(fù)性< 1rpm
n 工藝時間設(shè)定： 0-3,000 sec/step，時間設(shè)置精度：0.1sec
n 支持wafer尺寸1cm-300mm（12“圓晶）
n 標(biāo)準(zhǔn)配置兩路噴液系統(tǒng)（顯影液和去離子水）
產(chǎn)品特點：
l 主機在SC200-SE勻膠機上升級，增加耐腐蝕高分子材料防濺式罩蓋
l 全程序編輯功能，更方便的智能化操作，更好的顯影/清洗效果
l 可實現(xiàn)最多獨立四路噴液用于顯影/清洗工作，或進(jìn)行氮氣吹干
l 控制器可實現(xiàn)程序自動控制噴液或進(jìn)行手動操作，使用更加方便
l 顯影系統(tǒng)可進(jìn)行噴霧式、柱流式多種選擇，視要求進(jìn)行配置
l 提供客戶定制化的顯影系統(tǒng)配置和工裝設(shè)計
l 高可靠性和重復(fù)性，高轉(zhuǎn)速精度和更高轉(zhuǎn)速可選
l 可添加去邊膠和背膠清洗功能
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