簡(jiǎn)介 原位多用變溫光譜池(DM-LQ-H150-XAFS)是一款測(cè)試液體光譜學(xué)的原位裝置。主體配備加熱功能(無(wú)加壓功能),能在溶劑沸點(diǎn)以下溫度正常工作。配備X射線窗口和可見光窗口,為液體的X射線光譜學(xué)和可見光譜學(xué)研究提供了可能。 主要特點(diǎn) 1. 該裝置能夠?qū)崿F(xiàn)液體在加熱過(guò)程中的原位同步輻射X射線吸收譜測(cè)試(透射模式); 2. 裝置溫度使用范圍:室溫-120℃(使用溫度需要在實(shí)測(cè)液體的沸點(diǎn)溫度以下操作),溫度控制精度±1℃; 3. 可進(jìn)行液體樣品的同步輻射X射線吸收譜測(cè)試(透射模式); 4. 液體的樣品厚度可根據(jù)實(shí)驗(yàn)要求來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié); 5. 裝置整體采用氟膠圈進(jìn)行,保證裝置整體密封性良好; 6. 裝置主要包含加熱腔體一個(gè)、溫度控制器一臺(tái)、兩個(gè)X射線光學(xué)窗口、兩個(gè)可見光窗口;