二氧化硅研磨混合機

二氧化硅研磨混合機，二氧化硅研磨混合機

二.研磨機：機型19款，處理量50到8*10000KG/小時，旋轉1100到1.4*10000轉/分鐘，線速度23到44m/秒，電滾功耗1.5到160kW，磨頭膠體磨&錐體磨。

三.研磨分散機：機型6款，處理量50到6*1000KG/小時，旋轉1100到9*1000轉/分鐘，線速度23m/秒，電滾功耗2.2到150kW，磨頭膠體磨。

四.小型分散乳化機：機型30款，處理量0.2克到10KG/小時，旋轉50到3*10000轉/分鐘，線速度3到33m/秒，電滾功耗0.3到0.8kW。

五.真空分散乳化機：機型32款，處理量5到2*10000KG/小時，旋轉14到1.4*10000轉/分鐘，線速度44m/秒，電滾功耗0.18到120kW。

六.均質勻漿機：機型4款，處理量0.2到150克/小時，旋轉3500到8*1000轉/分鐘，線速度3到10m/秒，電滾功耗0.145到0.18kW。

七.多效用分散乳化均質機：機型27款，處理量150到12.5*10000KG/小時，旋轉960到1.4*10000轉/分鐘，線速度10到44m/秒，電滾功耗1.5到160kW。

八.混合機：機型I6款，處理量300到12.5*10000KG/小時，旋轉1100到9*1000轉/分鐘，線速度20到23m/秒，電滾功耗1.5到160kW。

九.實用物料種類：膠粘溶膠，巨粒子固態(tài)液體懸空液乳劑，不包溶等。

十.終級粒徑：主腔內(nèi)有叁組定轉子，每組粗齒、中齒、細齒、超細齒。調(diào)動定轉子間隙，加工后地終級粒徑在10微納米之下。

十一.胚料配件：百分之八十以上進ロ海內(nèi)外公司。

十二.技藝出處：引薦德國技藝，立發(fā)明加工，備有專li。

十三.工作方式：有在線式，批次式，內(nèi)外循環(huán)式，水管式，可倒式，若干效用式。

十四.機型合成：靠預加工鍋、攪動鍋、泵、液壓系統(tǒng)、倒料系統(tǒng)、電力調(diào)動系統(tǒng)、主腔等部件合成。

十五.智力化：CIP沖洗系統(tǒng)，液壓升降松蓋，包括配料給料吸料安裝。

十六.磨頭好處：研磨頭可調(diào)5款模版，6款分散頭，20多款工作頭。

十七.錐磨好處：錐磨轉子外層包含金屬碳化物跟不一樣粒子地陶瓷鍍層等高上材料，提防毀傷腐蝕。

十八.機型材料：統(tǒng)統(tǒng)接碰物料地材料皆是進口耐酸鋼，主腔跟管路內(nèi)乃亮面拋光三百EMSH（衛(wèi)生級），無si角。

十九.密封好處：博格曼雙機械密封，液壓平穩(wěn)系統(tǒng)（可以擔當16atm重壓），軟密封。

二十.攪動方式：可挑刮壁式/錨固式/融解式/葉面式。

二十一.機型好處：機型采選上層同軸三重裝攪動器，循環(huán)管路，出水閥。

二十二.操控箱好處：不但可以操控電滾旋轉，攝氏度降溫升溫（經(jīng)歷電能，熱汽，油水循環(huán)，可以擔當-40到250攝氏度），重壓，PH度，粘性。且可以設定不一樣效用模版，呈現(xiàn)相稱地個個參數(shù)，可以線性擴大量產(chǎn)。

?.可抉選：參觀窗，硅氟酸玻璃參觀，電導率計，二層絕緣保護，穩(wěn)定夾，作業(yè)臺，底盤，圖案解析多功用顯微硬度儀（測量界線1—4千維氏硬度），管路式測量電爐（測量界線zui高1350度），傳送泵/轉子泵/氣動隔膜泵/錨桿泵/離心泵（產(chǎn)量850—4.3萬升/H），反應翻攪單罐/多罐（500—3千升/H），反滲入/全自動純凈裝備（0.5—3千升/H)，超氧產(chǎn)生器，過流式紫外光滅菌器等。

?.別的特長：整體立方小，電耗低，分貝低，可每日不斷出產(chǎn)。

?.訪客垂訪：按照訪客實況必要恰當抉選！別的可訂制非標和生產(chǎn)線！假若是非常情況，比方超溫，超壓，易燒易炸，侵蝕性，可產(chǎn)品升級！

?.物料測量：得到訪客物料后當即投入測量，瞧可否到達要求&答復測量進程&成果。

?.方案價格：斷定好產(chǎn)品功用后當即策畫方案，包含2D部署圖，總安裝出產(chǎn)線表示圖，立體成果圖，&呈上本該得價格單子！

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擴展內(nèi)容可不看：二氧化硅是一種無機化合物，化學式為 SiO2。 硅原子和氧原子長程有序排列形成結晶二氧化硅，短程有序或長程無序排列形成無定形二氧化硅。在二氧化硅晶體中，硅原子位于正四面體的中心，四個氧原子位于正四面體的四個角上。許多這樣的四面體由角落處的氧原子連接。這兩個四面體是共同的，即每個氧原子與兩個硅原子結合。二氧化硅簡單的公式是SiO2，但SiO2并不代表一個簡單的分子（它只代表二氧化硅晶體中硅和氧的原子數(shù)之比）。二氧化硅晶體，是一種堅硬、脆、不溶、無色透明的固體，常用于制造光學儀器等。物理性質：結晶二氧化硅，密度2.2 g/cm3，熔點1723℃，沸點2230℃，折射率1.6，受熱變化受熱時與強堿熔化形成硅酸鹽，溶解性不溶于水能與HF反應生成氣態(tài)SiF4。