HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業(yè)有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學玻璃、核材料等。
GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導體和非導體復合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。
· 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。
· 采用多項技術,如高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。
· 分析速度快(2-10nm/s)
HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術參數(shù):
1、射頻發(fā)生器-標準配置、復合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時間短,表面信息無任何失真。
2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。
3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。
4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有很好的光效率和靈敏度。
5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。
6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。
7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。
8、HORIBA的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。
9、適用于ISO14707和16962標準。
儀器原理:
輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當施加在放電兩的電壓達到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。