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射頻輝光放電光譜儀

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱HORIBA 科學儀器事業(yè)部
  • 品       牌HORIBA
  • 型       號GD Profiler 2
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2024/8/9 16:38:31
  • 訪問次數(shù)567
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成立于1819年,Jobin Yvon公司的總部設在高科技發(fā)達的法國首都――巴黎。在近二百年的發(fā)展中,Jobin Yvon公司始終遵循著創(chuàng)建以來的一貫宗旨——高品質(zhì),為客戶提供優(yōu)質(zhì)產(chǎn)品:

 

 · 1900年 世博會上的干涉儀、光彈性測量儀      
 · 1962年 雙級光譜儀和1400系列雙級激光拉曼光譜儀以及計算機全控制熒光光譜儀  
 · 1968年 商品化全息光柵      
 · 1973年 相差校正全息光柵(榮獲IR100獎)      
 · 1977年 拉曼分子顯微探針(IR100獎),順序掃描型ICP光譜儀    
 · 1975年 全計算機化光子計數(shù)拉曼光譜儀和全計算機化光子計數(shù)熒光光譜儀  
 · 1983年 離子刻蝕“閃耀”全息光柵    
 · 1985年 光柵型波分復用器    
 · 1989年 超級校正全息光柵和二維成像光譜儀    
 · 1996年 榮獲法國CNRS佳橢偏儀獎    
 · 1998年 可配CCD檢測器的Triax系列光譜儀(獲激光儀誘導發(fā)光技術獎)    
 · 1998-1996年 收購美國品牌SPEX、法國Dilor和法國Sofie儀器公司    
 · 2001年 獲得美國宇航局(NASA)頒發(fā)“宇宙起源攝譜儀光柵接觸貢獻獎”    
 · 2002年 世界FTIFR聯(lián)用拉曼光譜儀,在Pittcon展會獲得Editor佳新品獎  
 · 2002-2003年 收購德國Philips橢偏儀公司和IBH(英格蘭)公司    
 · 2006年 美國宇航局(NASA)噴射推進實驗室頒發(fā)“運行碳觀測器(OCO)衍射光柵杰出貢獻獎”

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HORIBA歐洲總部

 

自從1988年合并了美國SPEX公司和1995年合并了法國Dilor,Sofie等公司后,Jobin Yvon公司于1997年加入了儀器制造集團――HORIBA公司,完成了公司強強聯(lián)手。

 

如今Jobin Yvon在法國、美國、日本、英國、意大利、荷蘭設有生產(chǎn)廠家?,F(xiàn)在Jobin Yvon公司除了提供各種類型的衍射光柵和離子刻蝕全息光柵外,還提供各種類型的光譜儀產(chǎn)品,如:激光拉曼光譜儀(Raman),熒光(壽命)光譜儀(FL),直讀火花光譜儀(SPARK),電感耦合等離子發(fā)射光譜儀(ICP),輝光放電光譜儀(GDS),橢圓偏振光譜儀(Ellipsometry),特殊搭建系統(tǒng)(System)及各種光學光譜器件(成像光譜儀,光源,IR檢測器,CCD檢測器等)。

 

目前,HORIBA Jobin Yvon公司設立了薄膜部、拉曼(光譜儀)部、發(fā)射(光譜儀)部、熒光(光譜儀)部、法醫(yī)部、光學儀器部、光柵&OEM儀器部等7個部門。旨在為您提供強大的技術支持與科研保障!

 

 

 

科學儀器:拉曼光譜分析,拉曼光譜設備,熒光光譜儀,粒度分布儀,粒度分析儀
產(chǎn)地 進口 產(chǎn)品新舊 全新
HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業(yè)有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學玻璃、核材料等。
射頻輝光放電光譜儀 產(chǎn)品信息

HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀是解密鍍層工藝、解析鍍層結(jié)構(gòu)的強有力手段,可以通過元素變化獲得鍍層結(jié)構(gòu)、層間擴散、元素富集、表面處理、鍍層均一性等信息,從而改善工藝條件等。主要應用行業(yè)有金屬冶金、半導體器件、LED芯片、薄膜太陽能電池、鋰電池陰陽、光學玻璃、核材料等。

 

 

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GD-Profiler 2 作為超快鍍層分析的理想工具,非常適合于導體和非導體復合鍍層的分析,操作簡單、便于維護,是鍍層材料研發(fā)、質(zhì)控的理想工具。

 

· 使用脈沖式射頻輝光源,可有效分析熱導性能差以及熱敏感的樣品。

·  采用多項技術,如高動態(tài)檢測器(HDD),可測試ppm-100%的濃度范圍,Polyscan多道掃描的光譜分辨率為18pm~25pm等。

·  分析速度快(2-10nm/s)

 

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HORIBA GD Profiler 2射頻輝光放電光譜儀技術參數(shù):

1、射頻發(fā)生器-標準配置、復合D級標準、穩(wěn)定性高、濺射束斑為平坦、等離子體穩(wěn)定時間短,表面信息無任何失真。

2、脈沖工作模式既可以分析常規(guī)的涂/鍍層和薄膜,也可以很好地分析熱導性能差和熱易碎的涂/鍍層和薄膜。

3、Polyscan多道(同時)光譜儀可全譜覆蓋,光譜范圍從110nm-800nm,可測試遠紫外元素C、H、O、N和Cl。

4、HORIBA的原版離子刻蝕全息光柵保證了儀器擁有大的光通量,因而擁有很好的光效率和靈敏度。

5、高動態(tài)檢測器(HDD)可快速、高靈敏的檢測ppm-100%含量的元素。動態(tài)范圍為5×1010。

6、寬大的樣品室方便各類樣品的加載。

7、功能強大的Quantum軟件可以靈活方便的輸出各種格式的檢測報告。

8、HORIBA的單色儀(選配)可大地提高儀器靈活性,可實現(xiàn)固定通道外任意一個元素的同步測試,稱為n+1。

9、適用于ISO14707和16962標準。

 

儀器原理:

輝光放電腔室內(nèi)充滿低壓氬氣,當施加在放電兩的電壓達到一定值,超過激發(fā)氬氣所需的能量即可形成輝光放電,放電氣體離解為正電荷離子和自由電子。在電場的作用下,正電荷離子加速轟擊到(陰)樣品表面,產(chǎn)生陰濺射。在放電區(qū)域內(nèi),濺射的元素原子與電子相互碰撞被激化而發(fā)光。

 

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