反應(yīng)離子束刻蝕
型號(hào):NRE-4000
廠家:美國(guó)Nanomaster公司
技術(shù)指標(biāo):
反應(yīng)氣體:O2, Ar, CF4,CHF3,SF6
RF功率:600W
電極尺寸:240mm
刻蝕材料:氧化物、半導(dǎo)體、金屬等
晶片尺寸:6英寸
主要功能及應(yīng)用范圍:
用于各種材料的離子束反應(yīng)刻蝕,輔助形成微/納結(jié)構(gòu)。可用于各種微納器件與結(jié)構(gòu)的制作,如:微納電子器件,光電子器件,生物傳感器,微納機(jī)電系統(tǒng),超導(dǎo)電子學(xué)器件,磁電子學(xué)器件等,也是研究材料在低維度、小尺寸下量子行為的重要輔助工具。