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碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨

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  • 公司名稱(chēng)太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司
  • 品       牌SID/希德
  • 型       號(hào)XMD2000
  • 所  在  地蘇州市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2023/11/13 9:05:56
  • 訪問(wèn)次數(shù)2259
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太倉(cāng)希德機(jī)械科技有限公司坐落在享有“德企之鄉(xiāng)”之稱(chēng)的太倉(cāng),公司成立伊始便與眾多德資企業(yè)有技術(shù)方面的交流合作,通過(guò)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)和科學(xué)管理模式,形成了完整的研發(fā),組裝,檢測(cè),及營(yíng)銷(xiāo)體系。著力打磨混合領(lǐng)域*產(chǎn)品,為客戶(hù)提供*的流體設(shè)備和成套工藝技術(shù)解決方案,包括研磨、乳化、分散、均質(zhì)、攪拌、混合、干燥、冷卻、燒結(jié)、熔融等工藝,提供工業(yè)生產(chǎn)中真空乳化機(jī)成套設(shè)備、粉體自動(dòng)化配料系統(tǒng)、交鑰匙工程大成套設(shè)備、多功能成套生產(chǎn)系統(tǒng)工藝過(guò)程監(jiān)測(cè)、DCS 控制技術(shù)等。

公司產(chǎn)品已廣泛應(yīng)用于食品工業(yè)、生物醫(yī)藥、日常護(hù)理品、納米材料、涂料油墨、石油化工、印染助劑、造紙工業(yè)、農(nóng)藥化肥、塑料橡膠、電力電子,精細(xì)化工、等行業(yè)。在新型高分子材料化工材料、精細(xì)化工,如石墨烯,瀝青,新型鋰電池,化妝品,制藥應(yīng)用尤為顯著及廣泛。

公司位于風(fēng)景優(yōu)美的千年古鎮(zhèn)沙溪鎮(zhèn),交通位置*,公司處于G15沈海高速沙溪出口,距離滬通高鐵太倉(cāng)站10公里,距離上海虹橋樞紐(虹橋機(jī)場(chǎng)、高鐵站)1小時(shí)車(chē)程,距離太倉(cāng)港15公里。

“行有矩,為有道,事可成”是希德人給世界的承諾,服務(wù)萬(wàn)千用戶(hù),不忘初心,勇往直前。

 

乳化機(jī),均質(zhì)機(jī),分散機(jī),研磨機(jī),膠體磨,離心干燥機(jī),冷水機(jī),高溫?zé)Y(jié)爐,真空乳化機(jī)成套設(shè)備,粉體自動(dòng)化配料系統(tǒng),交鑰匙工程大成套設(shè)備,多功能成套生產(chǎn)工藝過(guò)程監(jiān)測(cè)系統(tǒng),DCS 控制技術(shù)
產(chǎn)地 進(jìn)口 產(chǎn)品大小 中型
產(chǎn)品新舊 全新 分類(lèi) 分體式膠體磨
結(jié)構(gòu)類(lèi)型 立式 應(yīng)用領(lǐng)域 機(jī)械
自動(dòng)化程度 全自動(dòng)
碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨 產(chǎn)品信息

碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨

碳酸氫鈉注射液是臨床上調(diào)節(jié)體內(nèi)酸堿平衡的電解質(zhì)液體,是糾正酸中毒的藥物。其作為國(guó)家基本藥物307種中調(diào)節(jié)酸堿平衡的重要臨床用藥之一,為臨床常見(jiàn)的急救藥品?,F(xiàn)有的碳酸氫鈉注射液通常使用依地酸二鈉(EDTA-2Na)和依地酸鈣鈉(CaEDTA)作為絡(luò)合劑,用于絡(luò)合藥液中的Ca2+、Mg2+和其它金屬離子。但由于碳酸氫鈉注射液中存在微量的CO/—離子,加入依地酸鈣鈉易形成碳酸鈣,從而使可見(jiàn)異物不符合規(guī)定。而處方中若EDTA量過(guò)高,會(huì)與血液及骨胳中的鈣形成水溶性螯合物,被排出體外,引起低血鈣癥或骨鈣流失。

碳酸氫鈉注射液的制備方法包括如下步驟:向調(diào)配罐內(nèi)注入總配置量309^40%的注射用水,控制水溫為2(T35°C,優(yōu)選為2(T30°C,更優(yōu)選為25~30°C ;充入C02氣體至飽和;向注有注射用水的調(diào)配罐內(nèi)投入碳酸氫鈉,攪拌,使投入的碳酸氫鈉充分溶解;使用10%的NaOH溶液調(diào)節(jié)pH值至7.40~8.50,優(yōu)選為7.40~8.00,更優(yōu)選為7.40~7.70 ;繼續(xù)向調(diào)配罐內(nèi)投入注射用水,至標(biāo)準(zhǔn)配定,此過(guò)程中液溫應(yīng)控制在2(T35°C ;攪拌分散藥液充分至一段時(shí)間,使藥液含量均勻;除菌過(guò)濾;灌裝。
其中,除菌過(guò)濾采用兩級(jí)過(guò)濾,第I級(jí)過(guò)濾器孔徑為0.22 y m ;第2級(jí)過(guò)濾器孔徑為0.22 ii m ;藥液除菌過(guò)濾期間藥液溫度應(yīng)保持在2(T35°C的范圍內(nèi)。

混懸液中的微粒大小是不均勻的,大的微粒總是迅速沉降,細(xì)小微粒沉降速度很慢,細(xì)小微粒由于布朗運(yùn)動(dòng),可長(zhǎng)時(shí)間懸浮在介質(zhì)中,使混懸液長(zhǎng)時(shí)間地保持混懸狀態(tài)。制備混懸液時(shí),應(yīng)使混懸微粒有適當(dāng)?shù)姆稚⒍?,粒度均勻,以減小微粒的沉降速度,使混懸液處于穩(wěn)定狀態(tài)。傳統(tǒng)的混懸液生產(chǎn)都是采用普通膠體磨,轉(zhuǎn)速只有3000rpm,生產(chǎn)出來(lái)的懸浮液顆粒較粗,靜置一段時(shí)間容易產(chǎn)生絮凝,影響藥效和使用,為此有醫(yī)藥廠家在考察了國(guó)內(nèi)的設(shè)備之后,放棄了具有極度價(jià)格優(yōu)勢(shì)的國(guó)內(nèi)設(shè)備,來(lái)詢(xún)問(wèn)低能耗、高轉(zhuǎn)速、極精密定轉(zhuǎn)子、研磨細(xì)的希德機(jī)械高速膠體磨

該設(shè)備轉(zhuǎn)速達(dá)到14000RPM,這可以通過(guò)變頻調(diào)速通過(guò)皮帶加速來(lái)實(shí)現(xiàn)。(轉(zhuǎn)速是普通分散設(shè)備3-4倍,研磨的力度也是普通膠體磨的3-4倍,這樣研磨的細(xì)度更小,效果更好)混懸液膠體磨XM2000三級(jí)錯(cuò)齒結(jié)構(gòu)的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。

研磨分散機(jī)是由膠體磨分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間距離。在增強(qiáng)的流體湍流下。凹槽在每級(jí)口可以改變方向。
第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)征不一樣。狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

 

以下為型號(hào)表供參考:

型號(hào)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

XMD2000/4

400

18000

44

4

DN25

DN15

XMD2000/5

1500

10500

44

11

DN40

DN32

XMD2000/10

4000

7200

44

22

DN80

DN65

XMD2000/20

10000

4900

44

45

DN80

DN65

XMD2000/30

20000

2850

44

90

DN150

DN125

XMD2000/50

60000

1100

44

160

DN200

DN150

碳酸氫鈉注射液均質(zhì)膠體磨

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