恩諾沙星納米混懸液均質(zhì)機(jī),恩諾沙星高轉(zhuǎn)速均質(zhì)機(jī),恩諾沙星高剪切均質(zhì)機(jī),恩諾沙星分散均質(zhì)機(jī)
(洽談:1-7-3-6-8-3-4-7-9-6-0)
恩諾沙星(Enrofloxacin,ENR)又名乙基環(huán)丙沙星,是動(dòng)物的第三代喹諾酮類抗菌藥,其作用機(jī)理是通過(guò)抑制細(xì)菌DNA螺旋酶達(dá)到抗菌效果,在動(dòng)物體內(nèi)的代謝主要是脫去乙基而成為環(huán)丙沙星。ZKE/中新寶設(shè)計(jì)的高剪切均質(zhì)機(jī)能夠?qū)⒍髦Z沙星混懸液進(jìn)行細(xì)化分散均質(zhì),更好的吸收。
影響分散乳化結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 乳化頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 乳化頭的剪切速率(越大,效果越好)
3 乳化頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒,細(xì)齒,超細(xì)齒,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī), 流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設(shè)備的期限,就不能再好) 線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率(s-1) = v 速率(m/s) g 定-轉(zhuǎn)子間距(m)
由上可知,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子間距。SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速RPM / 60 2.2.1 漿料穩(wěn)定性理論
大部分的漿料都是屬于懸浮液體系。不穩(wěn)定的懸浮液在靜止?fàn)顟B(tài)下發(fā)生絮凝,并由于重力作用而很快分層,分散的目的就是要在產(chǎn)品的有效期內(nèi)
抗絮凝、防止分層,維持懸浮顆粒的均勻分布,提高產(chǎn)品的穩(wěn)定性。2.2.1.1 懸浮液的絮凝理論
絮凝作用即是在靜態(tài)(由于布朗運(yùn)動(dòng))或動(dòng)態(tài)(在剪切力作用下條件下, 通過(guò)顆粒碰撞引起顆粒數(shù)目減少的過(guò)程。膠體系統(tǒng)中,如不考慮穩(wěn)定劑, 顆粒間的相互作用主要有范德華(Vander Waals)引力;伴隨著帶電顆粒的庫(kù)侖(Coulombic)力(斥力或引力)。這些力的起因截然不同。
型號(hào) | 標(biāo)準(zhǔn)流量L/H | 輸出轉(zhuǎn)速Rpm | 標(biāo)準(zhǔn)線速度m/s | 馬達(dá)功率KW | 進(jìn)口尺寸 | 出口尺寸 |
KMZS20002000/4 | 300-1,000 | 18,000 | 51 | 4 | DN25 | DN15 |
KMS20002000/5 | 1,000-1,500 | 13,500 | 51 | 11 | DN40 | DN32 |
KMS20002000/10 | 3,000 | 9,300 | 51 | 22 | DN50 | DN50 |
KMS20002000/20 | 8,000 | 3,600 | 51 | 37 | DN80 | DN65 |
KMS20002000/30 | 20,000 | 3,600 | 51 | 75 | DN150 | DN125 |
KMS20002000/50 | 40,000 | 2,500 | 51 | 160 | DN200 | DN150 |
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