鹽酸司維拉姆濕法研磨分散機

鹽酸司維拉姆濕法研磨分散機，IKN濕法研磨分散機，藥用研磨分散機，分體式研磨分散機，GMP管線式研磨分散機

鹽酸司維拉姆，藥品名稱。在新一代磷結合劑的發(fā)展上，1998年美國食品衛(wèi)生檢驗局 核準上市的新一代的藥品Renagel ，是一個相當重要的里程碑。Renagel在藥理分類上是全新的藥物，其特色為不含鋁、不含鈣、亦不含任何金屬成份的聚分子化合物，病人在三餐同時與藥物并服，它以類似樹脂交換離子方式吸附腸道中的磷酸，結合后再由糞便排出體外。

由于Renagel無全身性吸收，所以安全性高，可以有效控制血磷值并且不會導致高血鈣癥等副作用。磷能解錠的使用禁忌，主要是對低血磷、大腸阻塞、以及對該藥成份會過敏的患者。它是屬于治療腎癌藥物。

上海依肯研發(fā)的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質一步到位的物料。是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。在膠體磨的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤。

CMD2000研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩(wěn)，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，保證機器連續(xù)24小時不停機運行。

CMD2000研磨分散機有一定輸送能力，對高固含量有一定粘稠度物料，CM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉子，進行物料的推動輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對鐵雜質要求嚴苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運轉的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計，可通冷卻或者升溫介質。

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研磨分散機的特點：

更穩(wěn)定 采用優(yōu)化設計理念，將先x的技術與創(chuàng)x的思維有效融合，并體現在具體的設備結構設計中，為設備穩(wěn)定運行提供了保證.

新結構 通過梳齒狀定子切割破碎，縫隙疏密決定細度大小，超高線速度的吸料式葉輪提供*切割力，纖維濕法研磨破碎可達400目.

更可靠 采用整體式機械密封，zui大程度上解決了高速運轉下的物料泄漏以及冷卻介質污染等問題，安裝與更換方便快捷.

新技術 采用國x先x的受控切割技術，將纖維類物料粉碎細度控制在設定范圍之內，滿足生產中的粗、細及超細濕法粉碎的要求.

設備核心參數:

設備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

CMD2000系列研磨分散機設備選型表
 

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節(jié)到zui大允許量的10%

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研磨分散機的應用領域：

1. 精細化工、顏料、染料、涂料、油漆、塑料、樹脂、熱熔膠、阻燃劑、膠黏劑、整理劑、表面活性劑、均染劑防粘劑、消泡劑、光亮劑、橡膠助劑、塑料輔劑、染料助劑、絮凝劑、混凝劑、表面活性劑溶劑、硅油乳化、樹脂乳化、炭墨分散
2. 石油化工、潤滑油、重油混合、油包水、包油水、柴油乳化、改性瀝青、乳化瀝青、催化劑、蠟乳化
3. 農藥化肥 、化肥、農藥乳化、農藥助劑、農藥中間體、藥乳油、殺蟲劑、除草劑、種衣劑、殺菌劑、植物激素、尿素、復合肥、乳油濕性粉劑
4. 生物醫(yī)藥、細胞漿化、血清疫苗、蛋白質分散劑、藥乳膏、抗生素、糖衣
5. 日用化工、護膚霜、護膚膏、洗滌劑、防腐劑、美發(fā)用品、牙膏、日用香精
6. 食品工業(yè)、食品添加劑、香精香料、果汁、果醬、冰淇淋、乳制品、巧克力、植脂末
7. 涂料油墨、內外墻涂料、乳膠漆、納米涂料、建筑膠、光固化涂料、油墨、墨水、碳黑、涂料助劑釉、膨潤土
8. 造紙工業(yè)、紙漿、膠黏劑、松香分散、碳酸鈣、填料助劑、顏料混合、樹脂乳化
9. 環(huán)境保護、廢水、污水處理、改質、回收利用
10. 其它：造紙、陶瓷泥釉、除銹劑、滑石粉

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