循環(huán)水中各種緩蝕阻垢劑用量及配方

1）

聚磷酸鹽

（

六偏磷酸鈉、

三聚磷酸鈉

）

阻垢劑。

使用時加入水中濃度為

0.5

～

10ppm

，

適合于低壓鍋爐。

①六偏磷酸鈉

（NaPO3）6

，由磷酸二氫鈉脫水經(jīng)高溫

（600

～

650

℃

）

處理后，急劇冷

卻而制得。

- H5 c4 z4 R4 j: ]: 

p, I; F6 D

②三聚磷酸鈉，即三磷酸鈉

（Na5P3O10）

，由磷酸二氫鈉和磷酸氫二鈉充分混合，

加熱脫水，再高溫熔融而成。

' a+ f& h- 

X6 Q） \0 ~

（2）

膦酸鹽阻垢劑

! B- @: D8 }4 w5 E

- ^7 {' S

常用的藥劑有以下幾種：

（ h% Z/ W8 T/ w; F$ H  C* _

①羥基乙叉二膦酸，結(jié)構式為：

別名為

HEDP

，含量為

50%

，為

**

透明粘稠液體，顯強酸性

（pH=2

～

3）

，具腐性。

羥基乙叉二膦酸多由二氯化磷與醋酸等原料制成，其合成反應如下：

【用途】

HEDP

為陰極型緩蝕劑。在水溶液中，

HEDP

可解離成

5

個正、負離子，

可與金屬離子形成六員環(huán)螯合物，尤其是與鈣離子可以形成膠囊狀大分子螯合物，

阻垢效果較佳。

   HEDP

與其它緩蝕劑、阻垢劑配合使用，具有協(xié)同效應，可提高藥效。例如與

鉻酸鹽、鉬酸鹽、硅酸鹽、亞硝酸鹽、聚丙烯酸鹽、鋅鹽等配合使用，多用于鍋爐

水處理、冷卻水的處理，使用量一般低于

1

～

3ppm

，適用于低、中壓鍋爐用水的處

理。

. m& @9 g9 f% Z* `9 a

: K0 W$ h

②乙二胺四甲叉四膦酸，其結(jié)構式為：

別名為

EDTMP

，其鈉鹽為棕

**

透明粘稠液體，含量為

28%

～

30%

，

pH=9

～

10

。

EDTMP

多由甲醛、乙二胺、二氯化磷為原料制成。其合成反應如下：

6 U, ~） ^' A# B  M

【用途】

EDTMP

為有機多元膦酸陰極緩蝕劑。在水中，

EDTMP

能解離成

8

個正、

負離子，可以和兩個或多個金屬離子螯合，形成兩個或多個立體結(jié)構大分子粘狀絡

合物，松散地分散于水中，使鈣垢的正常結(jié)晶破壞，減少垢的形成。

EDIMP

多用于

鍋爐水的阻垢。加入水中濃度為

1ppm

，適用于中、低壓鍋爐。

③氨基*叉膦酸，其結(jié)構式為：

+ ]+ x（ F5 M4 L: z1 t, m

別名為

ATMP

，含量為

50%

，為淡

**

液體。本品多由二氯化磷、銨鹽、甲醛等原

料反應制得，其反應原理為：

PCl3+3H2O→H3PO3+3HCl

3H3PO3+NH4Cl+HCHO→ATMP+CO2+3H2O

【用途】

ATMP

為陰型緩蝕劑。在水溶液中

ATMP

經(jīng)解離成六個正離子和六個負離

子，能與水中

Ca

サ，

Mg

サ形成多元螯合物。這個大分子螯合物以松散的方式分散

于水中，使鈣、鎂等垢的正常結(jié)構遭到破壞，所以

ATMP

有阻垢效果。多用于鍋爐

用水，印染用水、油田注水的防垢，一般用量為

3

～

10ppm

。

（3）

氨基化合物阻垢劑

6 G3 n6 y4 U） g

常用的藥劑有：

5 y& b3 

x- 

B" d9 

[* l

①二乙撐三胺，其結(jié)構式：

H2N（CH2）2NH（CH2）2NH2 

②三乙撐四胺，其結(jié)構式：

: r9 g4 T1 t1 ]& b* J; T1 {, M

2 j& E# s6 \4 |（ x. _

 H2N（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）NH2

0 y* e- @1 q! c, A8 ^: w+ X

③四乙撐五胺，其結(jié)構式：

 H2N（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）2NH（CH2）2NH2

# i1 l# T9 f: l