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使用NexION 5000 ICP-MS對超純水中的雜質(zhì)進行快速超痕量分析

來源:珀金埃爾默企業(yè)管理(上海)有限公司   2023年12月06日 09:03  
 

 

 
  超純水(UPW)在半導體行業(yè)中應(yīng)用廣泛,而雜質(zhì)會對半導體產(chǎn)品的質(zhì)量和總產(chǎn)量產(chǎn)生直接影響。因此,需要對雜質(zhì)進行控制。
 
  電感耦合等離子體質(zhì)譜(ICP-MS)能夠精確定量低濃度元素,因此常被用于定量雜質(zhì)的sub-ppt濃度。隨著超純水在半導體設(shè)備制造中的廣泛應(yīng)用,許多實驗室需要在相對較短的時間內(nèi)得出sub-ppt檢出限,以便快速對超純水中的雜質(zhì)作出響應(yīng)。
 
  本工作描述了使用珀金埃爾默NexION® 5000多重四極桿ICP-MS,測定超純水中雜質(zhì)的DLs和BECs的方法。在多重四極桿模式、冷等離子體條件下,使用氫氣作為反應(yīng)氣進行分析。此方法使用單個反應(yīng)氣和單組等離子體條件,可達到sub-ppt檢出限和本底等效濃度,同時可顯著縮短分析所需的時間。

  實驗條件
 
  樣品制備
 
  使用超純水(18.27MΩ.cm-1)制備所有的空白溶液和標準溶液。在超純水中,從濃度為1ppb的中間體儲備液中制備出濃度為5、10、20和40 ppt的標準溶液。從多元素有證儲備液(10 ppm,多元素標準溶液,生產(chǎn)商:珀金埃爾默公司,地址:美國康涅狄格州謝爾頓)中制備出中間體儲備液。
 
  方案
 
  按表1所示條件,使用NexION 5000多重四極桿ICP-MS(制造商:珀金埃爾默公司,地址:美國康涅狄格州謝爾頓)進行所有分析。通過四極桿離子偏轉(zhuǎn)器(Q0),此多重四極桿ICP-MS能夠控制進入離子透鏡系統(tǒng)高真空區(qū)域的質(zhì)量范圍,使整個系統(tǒng)更加清潔。之后,在第一個四極桿質(zhì)量分析器(Q1)中對離子進行質(zhì)量分離,只有選定的質(zhì)量數(shù)被允許進入通用池(Q2)。這樣,分析物離子和干擾在池內(nèi)發(fā)生受控的反應(yīng)。
 
  反應(yīng)副產(chǎn)物在有機會發(fā)生反應(yīng)并形成新的干擾之前被排除。之后,在第二個四極桿質(zhì)量分析器(Q2)中選出分析物質(zhì)量,以供檢測。使用NM-H2 Plus氫氣發(fā)生器(制造商:珀金埃爾默公司,地址:美國康涅狄格州謝爾頓),以滿足輸送速度要求;產(chǎn)出的H2純度為99.9999%,超出ICP-MS應(yīng)用對H2的純度要求。據(jù)發(fā)現(xiàn),冷等離子體模式可顯著改善許多分析物的BECs,因此將其用于所有分析。

表1. NexION 5000 ICP-MS儀器條件

 
  如表2所示,所用的反應(yīng)模式專門針對半導體行業(yè)通常所需的某些分析物,以消除因Si、C、O和Ar而產(chǎn)生的干擾??焖俜治鲇葹橹匾?,因此,為了縮短分析運行時間,低氣體流速(0.1mL.min-1)反應(yīng)模式也被用于相對不受干擾的分析物(即,鋰、鈹、鈉)。較高的氣體流速分別應(yīng)用于39K+、40Ca+和56Fe+,以消除這些質(zhì)量中分別以ArH+、Ar+和ArO+形式存在的氬氣相關(guān)的多原子離子干擾;根據(jù)經(jīng)驗確定RPq的最合適值并適當增加。在MS/MS多重四極桿模式下進行所有分析。

表2. 分析物和分析條件

 
  結(jié)果與討論

圖1. 在冷等離子體模式下,使用H2作為反應(yīng)氣時各分析物的校準曲線。

 
  繪制的校準曲線(圖1)顯示:相關(guān)系數(shù)(r2)>0.999(n=4+空白)。這表明:即使在冷等離子體條件下,標準溶液也足以適用于所有分析物。

  結(jié)論
 
  本應(yīng)用摘要證明了NexION 5000多重四極桿ICP-MS能夠獲得的DLs和BECs,包括元素Li、Be、Na、Mg、Al、K、Ca、Cr、Mn、Fe、Ni、Co、Cu和Zn,并可以在ppq水平上準確定量這些元素。同時發(fā)現(xiàn),NM-H2 Plus氫氣發(fā)生器生成的反應(yīng)氣可以達到半導體應(yīng)用所需的純度水平,而不會造成任何與實驗室氫氣氣瓶使用相關(guān)的潛在安全危險。使用此氣體和單個等離子體模式(冷等離子體)可使每個樣品的分析時間低至116秒,從而滿足半導體實驗室對超純水分析的快速響應(yīng)需求。
 
    參考文獻  
 
 
  1. Pruszkowski E., 2020, Characterization of Ultrapure Water using NexION 5000 ICP-MS, PerkinElmer App Note.
 
  2. Thomas R., 2004, Practical Guide to ICP-MS, Marcel Dekker Inc. New York ISBN: 0-8247-5319-4

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