詳細介紹
應(yīng)用領(lǐng)域
P 4通過設(shè)置研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)的轉(zhuǎn)速比率,可準(zhǔn)確的模仿各種受力的情況。獲得*的重復(fù)性的研磨過程,達到其它行星式研磨機達不到的效果。它是一種理想化的,適合各種機械活化和機械和金的研磨機。主要應(yīng)用于材料研究領(lǐng)域,以及任何需要一臺強有力的革新式的研磨機的領(lǐng)域。
工作原理
P 4研磨碗和支撐盤的旋轉(zhuǎn)速率可各自獨立的進行調(diào)節(jié),同時,研磨碗自轉(zhuǎn)與支撐盤公轉(zhuǎn)的傳動比率可根據(jù)需要進行自由設(shè)置。當(dāng)研磨球在研磨碗內(nèi)進行運動時,球的運動軌道依賴于旋轉(zhuǎn)速率,撞擊力和撞擊角度取決于旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率。通過改變旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率,便可產(chǎn)生出不同的高能摩擦力和撞擊力,以獲得不同效果的研磨過程。
設(shè)計特點
自由選擇控制研磨碗和支撐盤的旋轉(zhuǎn)速率和傳動比率,可以無限制改變的研磨條件
通過RS323界面,采用專業(yè)的操作軟件實現(xiàn)對研磨時間、間歇時間以及循環(huán)模式的控制
可進行反方向旋轉(zhuǎn),可通過調(diào)整旋轉(zhuǎn)速率進行超負荷保護
強通風(fēng)的研磨室可確保研磨樣品的充分冷卻
薄膜保護的鍵盤,人性化的友好界面設(shè)置
優(yōu)點
可實現(xiàn)*終顆粒大小<<1μm的超細粉末研磨
研磨碗自轉(zhuǎn)和公轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速的傳動比率任意可調(diào),可模仿各種球磨機在不同研磨參數(shù)下的研磨過程
可充入惰性氣體進行研磨
附件
GTM氣體壓力和溫度測量系統(tǒng)
GTM系統(tǒng)可將此研磨儀轉(zhuǎn)化成為一個分析測量系統(tǒng),它是*的一個可在研磨過程中持續(xù)的監(jiān)測氣體溫度和壓力變化的系統(tǒng)。通過無線發(fā)射和接受器可直接將數(shù)據(jù)傳輸?shù)接嬎銠C中,以Excel表格和圖形的形式顯示出來。
充入惰性氣體的研磨
當(dāng)使用特殊的研磨碗蓋子時,樣品便可在惰性氣體保護下進行研磨。這個具有快速通風(fēng)的排入和排出閥門的蓋子,可以和專門為充入惰性氣體研磨而設(shè)計的附加的內(nèi)鎖系統(tǒng)同時使用,以實現(xiàn)對研磨碗的傳送和手套箱的操作。
研磨碗和研磨球
共有9種不同材質(zhì)研磨碗和研磨球的裝置可供選擇,包括瑪瑙,氮化硅,氧化鋁(99.7 %),氧化鋁(85 – 90 %),氧化鋯,不銹鋼,普通鋼,碳化鎢,包裹塑料的不銹鋼。
共有6種體積的研磨碗可供選擇,包括12ml,25 ml,45 ml,80ml,250ml,500ml。
共有7種直徑的研磨球可供選擇,包括5 mm,10mm,12mm,15mm,20 mm,30 mm,40mm。