ZEISS Sigma 500場發(fā)射掃描電子顯微鏡

ZEISS Sigma 500場發(fā)射掃描電子顯微鏡

用于高品質(zhì)成像與高級分析的場發(fā)射掃描電子顯微鏡
靈活的探測，4步工作流程，高級的分析性能

將高級的分析性能與場發(fā)射掃描技術(shù)相結(jié)合，利用成熟的 Gemini 電子光學(xué)元件。多種探測器可選：用于顆粒、表面或者納米結(jié)構(gòu)成像。Sigma 半自動的4步工作流程節(jié)省大量的時間：設(shè)置成像與分析步驟，提高效率。

Sigma 500 裝配有背散射探測器，可快速方便地實現(xiàn)基礎(chǔ)分析。任何時間，任何樣品均可獲得精準(zhǔn)可重復(fù)的分析結(jié)果。

基于成熟的 Gemini 技術(shù)

Gemini 鏡頭的設(shè)計結(jié)合考慮了電場與磁場對光學(xué)性能的影響，并將場對樣品的影響降至更低。這使得即使對磁性樣品成像也能獲得出色的效果。

Gemini in-lens 的探測確保了信號探測的效率。通過二次檢測(SE)和背散射(BSE)元件同時減少成像時間

Gemini 電子束加速器技術(shù)確保了小的探測器尺寸和高的信噪比。

用于清晰成像的靈活探測

利用*探測術(shù)為您的需求定制 Sigma，表征所有樣品。

利用 in-lens 雙探測器獲取形貌和成份信息。

利用新一代的二次探測器，獲取高達(dá)50%的信號圖像。在可變壓力模式下利用 Sigma 創(chuàng)新的 C2D 和 可變壓力探測器，在低真空環(huán)境下獲取高達(dá)85%對比度的銳利的圖像。

靈活的檢測器選項，獲取清晰圖像

使用新穎的ETSE和Inlens探測器在高真空下獲取高分辨率表面形貌信息。

使用VPSE或C2D檢測器在可變壓力模式下獲得清晰圖像。

使用aSTEM檢測器生成高分辨率透射圖像。

使用BSD4或YAG檢測器分析成分。

ZEISS Sigma 500場發(fā)射掃描電子顯微鏡高級分析型顯微鏡

將掃描電子顯微鏡與基本分析相結(jié)合：Sigma 背散射幾何探測器大大提升了分析性能，特別是對電子束敏感的樣品。

在一半的檢測束流和兩倍的速度條件下獲取分析數(shù)據(jù)。

獲益于8.5 mm 短的分析工作距離和35°夾角，獲取完整且無陰影的分析結(jié)果。