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昆山鐳射麥克激光技術(shù)有限公司


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太陽能薄膜電池刻膜機(jī)

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產(chǎn)品型號MK-TYNKM5D

品       牌

廠商性質(zhì)生產(chǎn)商

所  在  地蘇州市

聯(lián)系方式:沈小姐查看聯(lián)系方式

更新時間:2024-03-16 15:29:43瀏覽次數(shù):249次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:18條

所在地區(qū):江蘇蘇州市

聯(lián)系人:沈小姐 (行政專員)

產(chǎn)品簡介

我公司研發(fā)制造的薄膜太陽能電池全自動激光刻蝕系統(tǒng),是迄今為止國內(nèi)*投入生產(chǎn)的全自動高速非晶硅太陽能電池板激光刻膜機(jī),是非晶硅太陽能電池生產(chǎn)線中重要的組成設(shè)備,采用美國生產(chǎn)的復(fù)合型高質(zhì)量激光器與*精度的傳送/定位模組,能實(shí)現(xiàn)超過4000mm/s 的超高加工速度。

詳細(xì)介紹

 

應(yīng)用
我公司研發(fā)制造的薄膜太陽能電池全自動激光刻蝕系統(tǒng),是迄今為止國內(nèi)*投入生產(chǎn)的全自動高速非晶硅太陽能電池板激光刻膜機(jī),是非晶硅太陽能電池生產(chǎn)線中重要的組成設(shè)備,采用美國生產(chǎn)的復(fù)合型高質(zhì)量激光器與*精度的傳送/定位模組,能實(shí)現(xiàn)超過4000mm/s 的超高加工速度。該系統(tǒng)包含了四臺獨(dú)立的激光刻蝕設(shè)備:透明導(dǎo)電膜(TCO)(P1)的刻膜設(shè)備,等離子氣相沉積PECVD制造的SI膜(P2)的刻膜設(shè)備,背電極AL膜(P3)的刻膜設(shè)備,以及電池的邊絕緣清洗設(shè)備。
特點(diǎn)
高速智能化,豐富的PLC和電腦串口通訊接口
高精度和高穩(wěn)定性
滿足1250*6401400*1100等不同玻璃基板的刻蝕劃線工作
采用雙倍CCD視覺系統(tǒng)
維護(hù)簡易和簡便操作
技術(shù)參數(shù)

激光物質(zhì)
Nd3+: YVO4
激光波長
1064 nm
調(diào)制頻率
1-200 kHz
激光功率
20 W
光束發(fā)散角
≤2.0 mrad
脈寬
35 ns
重復(fù)定位精度
±10 nm
刻膜速度
800-1500 mm/s
額定輸入電壓
AC 380V ±10%, 50Hz/60Hz
zui大輸入功率
12 kVA
外形尺寸
4500mm×2500mm×1700mm
凈重
≥6000Kg
冷卻方式
水冷
刻蝕項(xiàng)目
TCO: SnO2, ZnO
刻膜規(guī)格
1400×1100mm 1250×635mm
刻膜寬度
30-60μm
三線總寬
300-500μm

 


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