納米實驗室研磨分散機，納米實驗室研磨機，納米實驗室分散機，納米小型研磨分散機，納米研發(fā)用研磨分散機，CMD2000/4是一款應(yīng)用于實驗室小試和中試的設(shè)備，集研磨、分散、均質(zhì)、乳化于一體，在多個領(lǐng)域和行業(yè)有著突出的應(yīng)用。如化工行業(yè)：白炭黑、環(huán)氧樹脂等超細研磨分散機；食品行業(yè)：植物蛋白飲料、膠原蛋白提取等；都可以獲得良好的研磨分散細化的效果。
           


CMD2000/4納米實驗室研磨分散機，電機功率：2.2kw，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，處理在0-200L，設(shè)備體積較小，可直接放置實驗臺上操作。專為實驗室研發(fā)，模擬生產(chǎn)流程，為量產(chǎn)提供可靠的數(shù)據(jù)論證。該中試型型機器和大型量產(chǎn)機型配置相同，且分散頭的種類及相應(yīng)線速度也相同，中試過程中的工藝參數(shù)在量產(chǎn)化之后不要重新調(diào)整，而將機器型號升級過程中的風險降到zui低。

CMD2000/4納米實驗室研磨分散機是由膠體磨+分散機一體化而成的設(shè)備，先研磨后分散，效率果好。CMD2000系列研磨分散設(shè)備是IKN（上海）公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品，該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝，我們將三級變跟為一級，然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭，使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料，然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇）
            

*級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。 

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。

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