產(chǎn)品簡介 產(chǎn)品介紹儀器簡介：該設(shè)備利用頻率為2450MHz的微波激勵(lì)稀薄氣體放電，從而產(chǎn)生等離子體?？捎糜诘入x子體氣相沉積、等離子體氣相刻蝕等實(shí)驗(yàn)，用于制備金剛石膜或其它多種功能薄膜，可催化引發(fā)常規(guī)化學(xué)很難實(shí)現(xiàn)的反應(yīng)技術(shù)參數(shù)：本設(shè)備由微波系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成電源：AC220V，50Hz微波功率：0-1500W連續(xù)線性可調(diào)（或0-1000W連續(xù)線性可調(diào)）微波頻率：2450MHz±50MHz......
詳細(xì)介紹 產(chǎn)品介紹 儀器簡介： 該設(shè)備利用頻率為2450MHz的微波激勵(lì)稀薄氣體放電，從而產(chǎn)生等離子體。可用于等離子體氣相沉積、等離子體氣相刻蝕等實(shí)驗(yàn)，用于制備金剛石膜或其它多種功能薄膜，可催化引發(fā)常規(guī)化學(xué)很難實(shí)現(xiàn)的反應(yīng) 技術(shù)參數(shù)： 本設(shè)備由微波系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、水冷系統(tǒng)等幾部分組成 電源：AC220V，50Hz 微波功率：0-1500W連續(xù)線性可調(diào)（或0-1000W連續(xù)線性可調(diào)） 微波頻率：2450MHz±50MHz 石英管反應(yīng)室：φ50mm 放置樣品的基片臺(tái)可以方便地在放電腔內(nèi)上下升降調(diào)節(jié) 放電腔兩端有雙層水冷套作降溫保護(hù)
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