氧化爐

生產(chǎn)的系列熱工設(shè)備：

L4611Ⅱ-Z/RZQ雙管氧化爐

  【產(chǎn)品簡(jiǎn)介】

    氧化爐主要是完成半導(dǎo)體元器件的氧化，使元器件表面在一定的溫度和氣氛的反應(yīng)下形成一種所需要的氧化膜。同時(shí)可作元器件的燒結(jié)、退火、釬焊等工藝。

【產(chǎn)品特點(diǎn)】

具有應(yīng)用廣、安全可靠、控制精度高等特點(diǎn)。

【主要技術(shù)指標(biāo)】

● 溫度：    1250℃

●使用溫度：    300℃--1200℃

●恒溫區(qū)長(zhǎng)度：   ≥600mm

●恒溫區(qū)精度:    ±2℃

●單點(diǎn)控溫精度： ±1℃/24h

●升溫功率：   18KW

●保溫功率：   8KW

●氮?dú)饬髁浚?nbsp;  大 0—20L/min（可調(diào)）   小 0—1L/ min

●氫氣流量：  0—0.2L/min