深紫外光致發(fā)光光譜儀（Deep UV PL）

美國Photon Systems公司成立于1999年，一直專注于深紫外激光器、非相干深紫外光源及深紫外熒光、拉曼系統(tǒng)的研發(fā)和生產(chǎn)，得到了美國國家航空、、和美國國家科學基金會的政府資助。該公司搭載248.6 nm激光器的深紫外拉曼和熒光光譜儀被選中參與2020年美國飛往火星計劃。

美國Photon Systems公司的MiniPL深紫外光致發(fā)光光譜儀采用自主研發(fā)的深紫外激光器224nm或248.6nm作為激發(fā)源，配合緊湊的光學設計，非常適合寬禁帶半導體材料的研究。MiniPL可被用于表征半導體材料摻雜水平、合成組分分析、帶隙分析等，不僅可用于科研領域，也可用于半導體LED產(chǎn)業(yè)中的品質檢測。

主要參數(shù)及特點：

· 激光器：224nm (5.5 eV)或 248.6nm (5.0 eV)

· 光譜范圍：230-650nm（@224nm激發(fā)）或250-650nm（@248.6nm激發(fā)）

· 分辨率：0.7nm（@1200g/mm光柵，標配）

0.2nm（@3600g/mm光柵，選配）

· 探測器：高靈敏度PMT

· 采集器：門閘積分平均器Boxcar

· 光譜分析軟件（LabView）：半峰寬、峰值波長、副峰鑒別、背景扣除、歸一化等

· 可測量50mm直徑樣品，標配XYZ三維手動可調樣品臺

· 體積：15 x 18 x 36cm，重量：<8Kg

升級選項：

· X-Y電動樣品臺，實現(xiàn)Mapping功能

· 低溫制冷機：10K-325K或77K-600℃可選

實測案例：