半導體EDI超純水設備

半導體EDI超純水設備

隨著半導體、電子行業(yè)的技術發(fā)展，對水處理設備的需求也越來越廣泛，國內外超純水設備的技術也獲得了飛速的發(fā)展和廣泛的應用，涌現出一大批超純水處理方面領域的公司企業(yè)，。目前國內的超純水制備行業(yè)正處于快速的發(fā)展階段，但是相比國外的發(fā)展水平仍有很大的差距。隨著國內半導體生產線的普及，超純水制備設備的需求越來越大，目前國內的現代超純水水質以電阻率、TOC（總有機碳）、細菌、微粒、DO（溶解氧）、可溶硅、離子和金屬雜質等參數來表征，它們對器件影響大。因此，這就需要設計一臺能夠制備滿足指標要求的浸沒液超純水處理系統(tǒng)，以保證光刻機的正常運行。超純水處理系統(tǒng)是制備超純水的自動控制系統(tǒng)，在光刻機中它作為浸沒控制系統(tǒng)中的子模塊，主要負責對超純水的制備，對超純水污染物質進行處理，并達到浸沒供給液各項指標要求。

超純水設備

EDI超純水設備工作原理：

EDI工作原理如圖所示。EDI膜塊中將一定數量的EDI單元用格板隔開，形成濃水室和淡水室。又在單元兩端設置陰/陽電極。在直流電的推動下，通過淡水室水流中的陰陽離子分別透過陰陽離子交換膜遷移到濃水室而在淡水室中去除。如下圖：

電場使進水中的水分子在離子交換樹脂界面離解成H+及OH-，并不斷地再生淡水室中陰、陽離子交換樹脂。離子交換樹脂中的陰、陽離子在再生過程中受到相應正負電極的吸引，透過陽、陰離子交換樹脂向所對應的離子膜的方向遷移。當這些離子透過交換膜進入濃室后，H+及OH-重新結合成水。這種H+及OH-的產生、湮滅及陰、陽離子遷移正是離子交換樹脂得以實現連續(xù)再生的機理。

EDI超純水設備組成部分：

1、淡水室將離子交換樹脂填充在陰、陽離子交換膜之間形成淡水室

2、濃水室在相鄰淡水單元的陰陽離子交換膜之間添加樹脂，形成濃水室；

3、極水室在電極板與相鄰離子交換膜中間添加樹脂，形成極水室。

      一個膜塊中有正、負兩個極水室；

4、絕緣板和壓緊板

5、電源及水路連接

 參數：

產品品牌：

設備名稱：

行業(yè)用途：

 設備水量：0.5T（可按照客戶需求定制）

 生產水量：0.5T/小時

 工作方式：24小時連續(xù)工作

 控制方式：全自動控制

 進水溫度：10℃—35℃

 進水水質：市政水 地下水 地表水 廢水

出水水質：超純水（電導率≤0.1us/cm）

純水效率：75%以上

額定電壓：380V

原水泵功率：0.5KW/小時

高壓泵功率：1.5KW/小時 

產品服務：

1、售后服務

      （1）從設計到生產、運行、售后全程資料，免費保存15年。

      （2）設備運行狀況終身跟蹤，短信、電話提醒客戶更換耗材，免費提供設備運行記錄技術分析服務，對系統(tǒng)運行狀況進行判斷，防患于未然。

      （3）設備故障30分鐘提出解決方案，快24小時內上門維修。

2、產品培訓

      培訓至少1-2名設備操作管理人員，培訓完成后進行技能考核，考試合格上崗。

      培訓內容：基礎理論、設備構造、設備操作、設備維護保養(yǎng)、儀表校正、設備故障排除、現場實操等。

3、品質承諾

      設備安全穩(wěn)定運行15年。

半導體EDI超純水設備