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美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2021/7/15 20:03:17
  • 訪問次數(shù)185
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
電子顯微鏡
美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000是一款獨(dú)立式計(jì)算機(jī)控制的ALD系統(tǒng),全自動(dòng)工藝控制并包含完整的安全連鎖功能,能夠沉積半導(dǎo)體應(yīng)用中的氧化物和氮化物,支持太陽能和MEMS等眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。
美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000 產(chǎn)品信息

美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000

NLD-4000是一款獨(dú)立式計(jì)算機(jī)控制的ALD系統(tǒng),全自動(dòng)工藝控制并包含完整的安全連鎖功能,能夠沉積半導(dǎo)體應(yīng)用中的氧化物和氮化物(比如AlN, GaN, TaN, TiN, Al2O3, ZrO2, LaO2, HfO2),支持太陽能和MEMS等眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。



系統(tǒng)包含一個(gè)13”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體,具有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋,可一鍵式實(shí)現(xiàn)頂蓋的開啟/閉合,便于放取片。隨系統(tǒng)配套手套箱,可以支持最多七路加熱或冷卻的50cc容器用于前驅(qū)體或者反應(yīng)物,并集成了快速脈沖傳輸閥用于氣體脈沖輸出。沒有反應(yīng)掉的前驅(qū)體將被加熱過濾器所捕捉,該過濾器安裝在腔體排風(fēng)口。

工藝程序、溫度設(shè)定值、氣體流量、抽真空卸真空工序,以及傳輸管路的吹掃均通過LabView軟件全自動(dòng)控制。

選配項(xiàng)包含自動(dòng)上下片(系統(tǒng)占地面積不變)、遠(yuǎn)程平面ICP等離子源用于等離子增強(qiáng)ALD(平面ICP的構(gòu)造確保小的反應(yīng)腔體容積,這實(shí)現(xiàn)更快的循環(huán)時(shí)間),以及渦輪分子泵用于更低的極限真空。


特點(diǎn):

**低于1Å的均勻度
** 優(yōu)化的13”陽極氧化鋁腔體
** 小反應(yīng)腔體容積確??焖俚难h(huán)時(shí)間并提高產(chǎn)能
** 可支持8”的基片
** 400°C基片加熱器
** 隨系統(tǒng)配套前驅(qū)體手套箱
** 做多支持七路50cc前驅(qū)體容器
** 300L/Sec抽速的磁懸浮分子泵組
** 極限真空可達(dá)5x10-7Torr
** 快速脈沖氣體傳輸閥
** 大面積過濾器用于捕捉未反應(yīng)的前驅(qū)體
** 高深寬比結(jié)構(gòu)的涂覆
** 全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制,菜單驅(qū)動(dòng)
** LabVIEW友好用戶界面
** EMO和安全互鎖
** 占地面積僅24”x44”帶封閉面板的柜體對(duì)超凈間很理想


選配:

** 下游式平面ICP遠(yuǎn)程等離子源用于PE-ALD工藝
** RF離子源用于無需要求超高密度的PE-ALD工藝
** 自動(dòng)上下片
** 增加額外的前驅(qū)體


應(yīng)用:

** 高K介質(zhì)
** 疏水性涂覆
** 鈍化層
** 高深寬比擴(kuò)散阻擋層的銅連接
** 微流控應(yīng)用的保形性涂覆
** 燃料電池中諸如催化層的單金屬涂覆

關(guān)鍵詞:過濾器
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