德國(guó)Eulitha PhableR 100高分辨紫外光刻系統(tǒng)
科研/生產(chǎn)兼用
簡(jiǎn)介:
PhableR 100 紫外光刻機(jī)是一套低成本的光學(xué)曝光系統(tǒng),但卻能獲得高分辨率的周期性結(jié)構(gòu)。同傳統(tǒng)的紫外曝光機(jī)類似,涂覆了光刻膠的晶片以接近方式放置在掩膜版下面,被紫外光束照射。由于Eulitha公司擁有突破性的PHABLE 曝光技術(shù),在"PHABLE"模式下,分辨率不再受到衍射的限制,從而曝光出亞微米的線性光柵和二維光柵(六角形和正方形),且曝光結(jié)果非常均勻,質(zhì)量很 好;在"mask aligner"模式下,能非常輕松地獲得微米尺寸的圖形。
特點(diǎn):
· 高效的大面積亞微米-納米圖形化設(shè)備
· 操作簡(jiǎn)單、工作穩(wěn)定,兼容科研及批量生產(chǎn)
· 納米周期性圖案解決方案
優(yōu)勢(shì):
· 大面積圖形化設(shè)備:適用4、6、8寸襯底
· 高曝光效率:非步進(jìn)式曝光,無(wú)拼接,單次全場(chǎng)曝光實(shí)現(xiàn)整片圖形化
· 高精度:光學(xué)衍射自成像原理,突破傳統(tǒng)曝光精度極限
· 非接觸式曝光
· 設(shè)備沒有景深限制,曝光過(guò)程無(wú)需對(duì)焦
· 雙工作模式(UV375機(jī)型):高分辨模式(周期性納米-微米結(jié)構(gòu)),一般紫外光刻模式(非周期結(jié)構(gòu))
· 設(shè)備采用通用的商業(yè)光刻膠,根據(jù)客戶的圖形,提供工藝技術(shù)支持。
技術(shù)指標(biāo):
光源 UV375nm DUV266nm DUV193nm
分辨率 125nm 75nm 62nm
周期范圍 250-3000nm 150-2500nm 125-2000nm
操作方式 手動(dòng)裝片-自動(dòng)曝光 參數(shù)設(shè)置 觸摸屏
基片尺寸 4、6、8英寸(尺寸向下兼容)
PhableR 100 晶圓級(jí)光子學(xué)結(jié)構(gòu)的曝光工具
應(yīng)用:
· 圖形化藍(lán)寶石襯底(PSS)
· DFB布拉格光柵
· 減反層圖形
· 顯示濾光片Color Filter
· 線柵偏振Wire Grid Polarizer(WGP)
· 光子晶體
· 磁性納米結(jié)構(gòu)
· 太陽(yáng)能光伏
· 生物傳感器
· AR、VR技術(shù)