德國海德堡Heidelberg 激光直寫光刻機DWL 2000，DWL 4000
科研型與量產型兼具的激光直寫設備
高速、高靈活度與高精度的光學系統(tǒng)
4096階灰階光刻功能
DWL2000和DWL4000激光光刻系統(tǒng)為快速、靈活的高分辨率圖形產生器，用于制作光罩和直寫。這些系統(tǒng)的寫入面積高達200x200mm²與400x400mm²，是MEMS、BioMEMS、Micro Optics、ASICs、Micro Fluidics、Sensors，CGH以及所有其他微結構應用里，需快速構圖于光罩和硅片的方案。
?？虒懨娣e 200 x 200 mm2
?？虒懽钚〗Y構尺寸 0.6 μm
。最小分辨距離 10 nm
。多種曝光模式
。3D 曝光模式
。CCD成像坐標校準系統(tǒng)
。雙面校準系統(tǒng)
。帶溫度控制的機殼
?？蛇x配客戶的激光光源
。光學及氣壓控制自動對焦
。腳本擴展功能
。支持多種客戶圖形格式(DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)
。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸
。平臺坐標矩陣校正
。自動上板系統(tǒng)
應用于高分辨率掩膜版制作的激光成像設備
DWL 4000平臺移動范圍達到400 mm x 400 mm，可以的支持高精度的掩模板和干板繪刻。DWL 4000可應用于MEMS, SAW Devices, ASICS, MCMs等復雜的微觀集成光路和顯示技術。
DWL 4000分為兩種型號，一種為DWL 4000DD，一種為DWL 4000FBM。除了傳統(tǒng)的2D繪刻功能外，新型設備還支持復雜的3D圖形繪刻，例如：利用灰階技術去制作微光學應用。
?？虒懨娣e 400 x 400 mm2
。刻寫最小尺寸結構 0.6 μm
。最小分辨距離 10 nm
。多種曝光模式
。自動更換寫頭
。高級3D曝光模式
。測量及校準系統(tǒng)
。帶溫度控制的機殼
?？蛇x配客戶的激光光源
。在線圖形數(shù)據(jù)傳輸
。自動上板系統(tǒng)
。支持多種客戶圖形格式 (DXF, CIF, GDSII, Gerber, STL)
。平臺坐標矩陣校正
采購中心
